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掺锗CZSi禁带宽度的变化

牛新环 , 张维连 , 吕海涛 , 蒋中伟 , 王雅欣

功能材料

采用近红外分光光度仪(UV/VIS)测试了直拉法生长的掺杂不同Ge浓度的硅单晶样品,得到了不同锗浓度下1000~2000nm波长范围内样品的透射率和反射率,利用相关公式计算出单晶的光学吸收系数,根据吸收系数与单晶禁带宽度的关系式作图,得到了不同锗浓度样品的禁带宽度值.结果发现,随锗浓度的提高,样品的禁带宽度逐渐减小.这结论与理论结果相吻合.

关键词: 直拉法 , 晶体生长 , SiGe体单晶 , 禁带宽度

CZSiGe单晶的 FTIR光谱研究

蒋中伟 , 张维连 , 牛新环 , 张书玉

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2005.01.006

利用傅立叶红外光谱( FTIR)测试技术,研究了掺锗 CZSi的低温和常温红外吸收光谱.发现 高浓度 Ge掺入 CZSi在红外吸收光谱中引起的波数为 1118 cm- 1、 710 cm- 1和 800 cm- 1的新红外 吸收峰,这些峰的吸收强度随 Ge含量的增加也逐渐增强;碳的红外吸收峰( 607 cm- 1)则向低频方 向移动.同时利用 X射线单晶衍射技术( SCXRD)测定了 SiGe( Ge: 10wt%)单晶的晶格常数,结果 表明晶格常数由 Si单晶的 0.54305nm变为 0.5446nm.

关键词: CZ法 , SiGe单晶 , 红外光谱

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