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电沉积制备Co-Nd稀土功能合金膜

苟劲 , 谷历文

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2002.04.001

研究了室温下含有NdCl3、CoCl2、极性非质子溶剂二甲基甲酰胺及少量水的溶液中电沉积制备Co-Nd稀土功能合金膜.在控制溶液中NdCl3+CoCl2的总量为0.2 mol/L的电镀液中以-3.00 V进行恒电位电镀;电流密度为15 mA/cm2进行恒电流电镀或脉冲电流密度5~15 mA/cm2进行脉冲电镀,可得到不同形态和不同的Nd的质量分数的稀土功能合金膜.

关键词: 共沉积 , 恒电位 , 恒电流 , 脉冲 , Co-Nd

DMF中电沉积制备Yb-Co合金膜

苟劲 , 徐红 , 谷历文

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2000.11.006

研究了于室温下含有少量水的YbCl3-CoCl2-DMF溶液中电沉积制备Yb-Co合金膜。EDAX和XRD分析表明:在0.10 mol/L YbCl3-0.10 mol/L CoCl2的DMF电镀液中,以控制电位为-2.75V(SCE)进行恒电位电解,以控制电流密度为100A/m2进行恒电流电解或以控制脉冲电流密度为150A/m2进行脉冲电解,可以得到不同形态和Yb含量的共沉积合金膜,且膜层光滑、附着力强。

关键词: 共沉积 , 恒电位 , 恒电流 , 脉冲 , Yb-Co合金膜

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