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基于吡咯并四硫富瓦烯结构的D-π-A型化合物的合成及其非线性光学性质的理论计算

安彩霞 , 侯瑞斌 , 邱寒 , 赵亮 , 尹炳柱 , 苏忠民

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2009.07.011

以吡咯并四硫富瓦烯衍生物(1)为原料,经过Vilsmeier甲酰化、Wittig反应或交叉偶联反应得到D-π-A型化合物(6a,7a),为了比较N-甲基的影响,以N-甲基吡咯并四硫富瓦烯衍生物(2)出发,用同样的方法合成了N-甲基化的D-π-A型化合物(6b,7b). 用循环伏安法(CV)和UV-Vis研究了目标化合物的电化学和光物理性质,并进行了非线性光学性质的理论计算. 结果表明,目标化合物的紫外最大吸收波长在325~383 nm之间,具有较长共轭结构的化合物7a和7b显示出较好的三阶非线性光学性质, 它们在λ=1 064 nm基频下的三阶非线性系数γ值达5×10-33 esu.

关键词: 吡咯并四硫富瓦烯 , 电化学 , 光物理性质 , 非线性光学性质 , 理论计算

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