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外延生长Ge1-xSnx合金的研究进展

苏少坚 , 汪巍 , 胡炜玄 , 张广泽 , 薛春来 , 左玉华 , 成步文 , 王启明

材料导报

Ge1-xSnx是一种新型的Ⅳ族材料,具有广阔的应用前景,但是其生长存在许多困难,尤其是Sn易于分凝.采用离子轰击和快速变温等方法可以有效地抑制Sn的分凝,但是所生长的材料的热稳定性都比较差.采用化学气相沉积法获得了较高质量的Ge1-xSnx合金,但是所用的Sn气体源难以获得.综述了Ge1-xSnx合金外延生长的研究进展.

关键词: Ge1-xSnx合金 , 外延 , 分凝