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反应溅射Ti-Al-Si-N纳米晶复合薄膜的微结构与力学性能

董云杉 , 孔明 , 胡晓萍 , 李戈扬 , 顾明元

功能材料

采用Ar、N2和SiH4混合气体反应溅射制备了一系列不同Si含量的Ti-Al-Si-N薄膜,并采用EDS、AES、XRD、TEM和微力学探针研究了薄膜的微结构和力学性能.结果表明通过控制混合气体中SiH4分压可以方便地获得不同Si含量的Ti-Al-Si-N纳米晶复合薄膜.当Si含量达到3.5%(原子分数)时,薄膜中出现TiSix界面相,造成(Ti,Al)N晶粒细化,使薄膜力学性能得到提高,硬度和弹性模量的最高值分别为36.0GPa和400GPa.进一步提高Si含量,薄膜的力学性能逐渐降低.

关键词: 反应溅射 , 纳米晶复合薄膜 , 微结构 , 力学性能

Li改性铌钽酸钾钠无铅压电陶瓷的研究

江向平 , 胡晓萍 , 江福兰 , 刘晓冬 , 殷庆瑞

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2007.00465

利用固相反应法制备了(Na 0.52 K 0.48-x Li x)(Nb 0.86 Ta 0.10 Sb 0.04)O 3系无铅压电陶瓷, 研究了不同Li含量(x分别为0、0.02、0.04、0.06、0.08)样品的显微结构、物相组成及电性能. 结果表明, Li含量的改变对其物相组成、压电性能、铁电性能、介电性能都有显著影响. 当Li含量x从0增大到0.04时, 其压电性能相应提高, 当Li含量x超过0.04时, 压电性能明显下降; 在x=0.04时综合性能最好, 其压电常数d33高达260pC/N, 介电损耗tanδ为0.027, 平面机电耦合系数kp值达到50%, 剩余极化强度Pr为22μC·cm-2, 矫顽电场Ec为0.95kV·mm-1, 居里温度为316℃. 另外, 随着Li含量增加, 该系统的矫顽电场明显增强, 居里温度有所提高.

关键词: 铌钽酸钾钠 , lead-free piezoelectric ceramics , piezoelectric properties , ferroelectric properties , dielectric properties

Li改性铌钽酸钾钠无铅压电陶瓷的研究

江向平 , 胡晓萍 , 江福兰 , 刘晓冬 , 殷庆瑞

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2007.03.018

利用固相反应法制备了(Na0.52K0.48-xLix)(Nb0.86Ta0.10Sb0.04)O3系无铅压电陶瓷,研究了不同Li含量(x分别为0、0.02、0.04、0.06、0.08)样品的显微结构、物相组成及电性能.结果表明,Li含量的改变对其物相组成、压电性能、铁电性能、介电性能都有显著影响.当Li含量x从0增大到0.04时,其压电性能相应提高,当Li含量x超过0.04时,压电性能明显下降;在x=0.04时综合性能最好,其压电常数d33高达260pC/N,介电损耗tanδ为0.027,平面机电耦合系数kp值达到50%,剩余极化强度Pr为22μC·cm-2,矫顽电场Ec为0.95kV·mm-1,居里温度为316℃.另外,随着Li含量增加,该系统的矫顽电场明显增强,居里温度有所提高.

关键词: 铌钽酸钾钠 , 无铅压电陶瓷 , 压电性能 , 铁电性能 , 介电性能

有机小分子在半晶体聚乙烯中的溶解度

姚文娟 , 胡晓萍 , 阳永荣

高分子材料科学与工程

通过测定压力的方法研究了乙烯、正己烷和异戊烷在三种不同结晶度聚乙烯中的溶解度,分析了结晶度、小分子物性以及温度对该过程的影响.得到温度60℃~90℃,乙烯0~2 MPa,正己烷19 kPa~100 kPa,异戊烷80 kPa~300 kPa范围内三者各自在聚乙烯样品中的溶解度数据.结果表明,乙烯溶解度呈线性,符合Henry定律;正己烷和异戊烷的溶解度呈非线性.聚乙烯结晶度20%~72%范围内,有机小分子在聚乙烯中的溶解度随结晶度的增加而减小.溶解度随压力增加和温度的减小而增加.

关键词: 溶解度 , 聚乙烯 , 乙烯 , 正己烷 , 异戊烷 , 结晶度

低分子在聚烯烃中溶解度模型应用的研究进展

姚文娟 , 胡晓萍 , 阳永荣

高分子材料科学与工程

介绍了建立低分子在聚烯烃中溶解度模型的基本思路,综述了近年来模型的应用研究,重点讨论了Henry规则、Flory-Huggins模型、S-L状态方程以及双模模型,分析模型的前提假设、适用性和缺陷,着重于模型中参数的讨论,并分析了进一步的发展方向.

关键词: 溶解度 , 模型 , 聚烯烃 , 低分子

c-AlN的生长对AlN/(Ti,Al)N纳米多层膜力学性能的影响

胡晓萍 , 李戈扬 , 顾明元

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2003.03.018

采用反应磁控溅射制备了具有不同调制周期的AlN/(Ti,Al)N纳米多层膜,研究了亚稳相立方氮化铝(c-AlN)在纳米多层膜中的生长条件及其对薄膜力学性能的影响.结果表明:在小调制周期下AlN以立方结构存在,并与(Ti,Al)N层形成同结构共格外延生长,使纳米多层膜产生较大的晶格畸变.与此相应,AlN/(Ti,Al)N纳米多层膜硬度和弹性模量随调制周期的减小呈单调上升的趋势,当调制周期小于8~10 nm时其增速明显增大,并在调制周期为1.3 nm时达到最高硬度29.0 GPa和最高弹性模量383 GPa.AlN/(Ti,Al)N纳米多层膜的硬度和弹性模量在小调制周期时的升高与亚稳相c-AlN的产生并和(Ti,Al)N形成共格结构有关.

关键词: 无机非金属材料 , 材料表面与界面 , 纳米多层膜 , 亚稳相 , 力学性能 , 立方氮化铝

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