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关键因素对化学镀铁镀速的影响研究

张敏 , 李林泽 , 何为 , 胡文成 , 万小波 , 张云望 , 杜凯 , 张林

材料导报

以有机玻璃为镀件,通过化学镀铁工艺构建了应用于惯性约束核聚变实验的铁黑腔.采用离子钯为活性剂,考察了氯化钯质量浓度对镀层覆盖率的影响;详细研究了镀液中主盐硫酸亚铁、还原剂硼氢化钠和缓冲剂硼酸、工艺条件(pH值和温度)对镀速的影响规律.实验结果表明,随着镀液中主盐和还原剂质量浓度的增加,镀速明显加快;而缓冲剂对镀速的影响相对较小;随着pH值和温度的升高,镀速也明显加快.对相应的影响机制进行了探讨,为最终建立动力学方程打下了基础.

关键词: 化学镀铁 , 离子钯 , 影响因素 , 镀速

清洁镀金新材料在镀金工艺中的应用

张磊 , 胡文成 , 马默雷 , 张勇强

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2011.01.003

介绍了一种清洁镀金新材料,采用该新材料配制成镀液所得镀金及其合金镀层镀金件在测试的致密性、可焊性、盐雾试验,潮湿及高低温冲击等项目均符合国家军用标准和美国军用标准,镀金液中可直接加入该物质,镀液稳定,易维护,管理成本低、废水可达到国家排放标准,产品不属危险化学品等.完全可替代氰化亚金钾用于镀金及其合金工艺.

关键词: 清洁镀金新材料 , 废水达标排放 , 替代氰化亚金钾

BST铁电薄膜的制备及其性能的研究进展

邱滟 , 胡文成 , 李元勋 , 朱琳

材料导报

Ba1-xSrxTiO3铁电薄膜具有优良的介电性、铁电性、热释电性,得到了广泛的研究,近年来取得了很多进展.简介了BST材料的结构,并综述了BST薄膜的制备方法及BST薄膜的性能测试和影响铁电性能的几个因素.

关键词: 铁电薄膜BST , 制备方法 , 介电性能 , 铁电性能

TGS和GTGS热释电晶体的热力学模型模拟曲线

胡文成 , 杨传仁 , 张万里 , 廖希异

功能材料

通过热力学推导,建立了零电场下热释电晶体的极化与温度的方程.由热释电系数的定义,对热释电晶体的极化方程对温度求导,得出由热力学模型建立的热释电方程.并对热释电晶体硫酸三甘氨酸(TGS)和掺胍TGS(GLTGS)的实验曲线进行了模拟,该理论基本符合.

关键词: 热释电晶体 , 极化方程 , 热力学模型 , 热释电方程

纳米多孔金属的制备方法研究进展

陈静 , 胡文成 , 杜凯 , 董东 , 张淑洋 , 张林

材料导报

综述了去合金化法和模板法2种制备纳米多孔金属材料的方法.以多孔金的制备为代表.进行了较详细的介绍.比较2种制备方法得出,模板法简单方便、可控性良好,应用更加广泛;模板法包括AAO模板/PC模板法、蛋白石/反蛋白石结构模板法以及氢气模板法等.通过模板法能够获得分布有序的多孔结构,且孔间的联通性较好,是一种制备纳米多孔材料的重要方法.

关键词: 纳米多孔 , 去合金化 , 模板法

微波多层板基材的性能要求

胡文成 , 杨传仁 , 龙继东 , 邱滟 , 朱琳

材料导报

介绍了微波多层板所用基材的性能参数,重点阐述了材料的介电常数、介质损耗、热胀系数、特性阻抗对多层板性能的影响.通过对微带线特性阻抗公式的理论计算,得出了带线的线宽W、导体层的厚度t、介质的厚度h以及介电常数εr的精度对特性阻抗Z0的影响程度.这4个因素中,介质的厚度h和带线的线宽W对特性阻抗Z0的精度影响最大.总结了国内外微波介质材料的研究情况,优选了适合于制造微波多层板的材料.

关键词: 微波多层板 , 基板 , 热胀系数 , 特性阻抗 , 微带线

钛酸锶钡改性掺杂的研究进展

刘桂君 , 胡文成 , 朱琳 , 谢振宇

材料导报

介绍了国内外近几年钛酸锶钡(Strontium Barium Titanate,BST)在掺杂改性方面的研究现状及各种掺杂对BST介电性能的影响,重点讨论了不等价掺杂及掺杂量对漏电流和介电损耗的影响,论述了材料组成、显微结构与介电性能之间的关系.最后提出了关于掺杂改性方面存在的问题.

关键词: 钛酸锶钡 , 掺杂 , 介电性能 , 漏电流

高速沉积氮化硅薄膜对其化学键及性能的影响

谢振宇 , 龙春平 , 邓朝勇 , 胡文成

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.01.006

采用等离子增强型化学气相沉积法(RF-PECVD),源气体为NH3/SiH4/N2的混合气体,在330 ℃的温度下沉积a-SiNx:H薄膜.研究表明在反应气体流量一定的情况下,反应腔气压对薄膜沉积速率影响最大.采用Fourier红外吸收光谱技术分析a-SiNx:H薄膜中化学键结构,随着沉积速率的提高,薄膜的化学键结构发生变化,N-H键含量和氮含量增大,Si-H键含量和氢含量降低.薄膜沉积速率是影响薄膜物理和光学性质的重要工艺参数.禁带宽度(E04)主要受薄膜中氮原子含量的调制,随着沉积速率增大,氮原子含量增大.另外,介电常数和折射系数则随之增大.最后得到满足薄膜晶体管性能要求的最佳工艺参数.

关键词: 氢化非晶氮化硅 , 沉积速率 , 禁带宽度 , 介电常数 , 反射系数

溶胶-凝胶法制备多孔SiO2薄膜开裂问题研究进展

方欣 , 胡文成 , 董东

材料导报

综述了用溶胶-凝胶法制备多孔SiO2薄膜过程中薄膜开裂问题的研究进展,讨论了影响薄膜开裂的各种因素.对各种可能导致开裂的因素如溶剂、化学添加剂、表面改性、干燥过程等进行了开裂原理分析,并给出了部分解决方法.

关键词: 多孔SiO2 , 薄膜 , 开裂 , 溶胶-凝胶法

CdS掺杂研究进展

李江波 , 胡文成 , 董东

材料导报

介绍了国内外关于硫化镉(Cadmium sulfide,CdS)在掺杂改性方面的研究现状,以及各种掺杂对硫化镉特性的影响,重点讨论了掺杂浓度及掺杂种类对硫化镉结构和光学特性的影响,论述了材料组成、微观结构与特性之间的关系.最后提出了在实际应用中存在的问题.

关键词: 硫化镉 , 掺杂 , 光学特性 , 结构特性

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