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光学浮区法生长掺锡氧化镓单晶及性能研究

张小桃 , 谢建军 , 夏长泰 , 张晓欣 , 肖海林 , 赛青林 , 户慧玲

人工晶体学报

作为垂直结构的GaN基LED新型衬底材料,β-Ga2 O3单晶已经引起了人们的广泛关注.β-Ga2O3单晶的导电性是通过掺杂来实现的,Sn4掺入是其中一种很好提高-Ga2O3导电性的方法.利用光学浮区法生长了尺寸为5×20 mm2,掺杂浓度为10%的掺锡氧化镓单晶(Sn∶ β-Ga2O3),并对Sn∶ β-Ga2O3单晶的缺陷密度、导电和荧光光谱特性进行了研究.结果表明:实验制得Sn∶β-Ga2O3样品的线缺陷约为6.51×105/cm2,掺入Sn4+杂质后β-Ga2 O3的电导率增加,样品的最高电导率为2.210 S/cm,同时Sn4+的掺入会抑制β-Ga2O3的红绿光发射.

关键词: Sn∶β-Ga2O3 , 浮区法 , 电导率 , 荧光光谱

宽禁带半导体β-Ga2O3单晶的研究进展

张宏哲 , 王林军 , 夏长泰 , 赛青林 , 肖海林

人工晶体学报

本论文综述了宽禁带半导体β-Ga2O3材料的研究进展,包括晶体结构,生长方法,掺杂离子,光学性质和电学性质.β-Ga2O3可以作为GaN基LEDs的潜在衬底,同时它也在MOSFET和紫外光探测器方面有着重要的应用前景.

关键词: β-Ga2O3 , 晶体生长 , LED , MOSFET , 紫外光探测器

混晶β-(Al,Ga)2O3的禁带调节

肖海林 , 邵刚勤 , 赛青林 , 夏长泰 , 周圣明 , 易学专

无机材料学报 doi:10.15541/jim20160135

通过光学浮区法生长了不同浓度的β-(Al,Ga)2O3混晶.当Al3+掺杂浓度达到0.26的时候,晶体生长出现开裂现象.进行X射线衍射分析,结果表明所得β-(Al,Ga)2O3混晶保持了β-Ga2O3的晶体结构,晶体没有出现其他杂质相,并且随着Al3+浓度的增加,晶格常数a、b、c减小,β角增大;核磁共振光谱显示Al的确进入了Ga的格位并且取代了Ga的四配位和六配位格位,两者的比例约为1∶3.通过测试β-(Al,Ga)2O3混晶的透过光谱,得出β-(Al,Ga)2O3混晶的禁带调节范围为4.72~5.32 eV,扩大了β-Ga2O3晶体在更短波段的光电子探测器方面的应用.

关键词: β-Ga2O3 , Al3+ , 禁带宽度 , 半导体

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