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水热法制备ITO薄膜的研究

职利 , 徐华蕊 , 朱归胜 , 周怀营

材料导报

以铟锡氯化物为原料,采用水热法在玻璃基片上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,并利用X射线衍射(XRD)、能谱分析(EDS)、扫描电子显微镜(SEM)等手段对薄膜的相结构、化学组成及形貌进行了表征,研究了水热温度和时间等条件对ITO薄膜光吸收特性的影响.结果表明,水热法制备的ITO薄膜呈体心立方多晶结构且均匀、致密.薄膜在可见光区透射比可达98.2%,具备低成本大规模制备ITO薄膜的潜力.

关键词: 水热法 , ITO薄膜 , 光吸收性能

Ar气氛下直流磁控溅射ITO薄膜的结构和性能

职利 , 徐华蕊 , 周怀营

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2007.02.016

采用直流磁控溅射法在低温、100%Ar的无氧气氛中制备了光电性能优良的铟锡氧化物(ITO,In2O3:SnO2=90:10,质量百分比)薄膜,详细探讨了溅射时改变氩气压强对ITO薄膜结构以及光电性能的影响.结果表明:溅射时氩气压强越小,ITO薄膜的体心立方晶型越完整,导电性越好,但对可见光透过性的影响不大.当氩气压强为0.3Pa时,溅射薄膜性能最佳,其光透过率可达92.9%,电导率为8.9×10-4Ω·cm.

关键词: 直流磁控溅射 , ITO薄膜 , 氩气压强 , 电导率 , 透过率

氧化铟锡薄膜制备工艺参数的正交优化设计

职利 , 徐华蕊 , 周怀营

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2006.05.013

利用水热的方法制备了ITO透明导电薄膜,通过正交试验设计研究镀膜工艺因素对薄膜光电特性的影响规律.试验结果表明:影响薄膜光电性能的主要因素是前驱物浓度,其次是氨水浓度和保温温度,保温时间对薄膜光电性能的影响较小.在采用前驱物浓度为0.5 mol/L、氨水浓度为3 mol/L、保温温度为160 ℃、保温时间8 h的实验条件下,沉积薄膜的性能较好.

关键词: ITO薄膜 , 水热法 , 正交试验

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