张艳丽
,
罗胜铁
,
刘大成
兵器材料科学与工程
doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2007.04.016
采用复合电镀技术在炭素结构钢板的表面上制备高硬度的Ni-SiC纳米复合镀层,研究镍-碳化硅纳米复合电镀的工艺条件.结果表明,当阴极电流密度为2.56 A/dm2,镀液中纳米碳化硅粉的质量浓度为20 g/L,镀液的pH值为5.0,温度为50 ℃时,镀层生长良好,均匀细致平滑,镀层的显微硬度可达到950HV0.2,远高于普通纯镍镀层的硬度.
关键词:
纳米复合电镀
,
镍-纳米碳化硅
,
显微硬度
