罗晶晶
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范旭良
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马荣伟
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胡浩
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牛振江
电镀与涂饰
在FTO(即掺杂氟的SnO2透明导电玻璃)基底上采用两步恒流电沉积，得到厚度约500 nm的金属Cu薄膜，然后置于SnO2溶胶中浸渍并经175°C加热氧化，制得由超薄SnO2修饰的Cu2O多孔薄膜。利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、扫描电镜(SEM)和漫反射–紫外可见光谱(UV-Vis DRS)表征了试样的结构、形貌及光学性质。通过在0.2 mol/L Na2SO4溶液中测试样品在可见光和零偏压下的光电流，分析了薄膜的光电化学性能。结果表明，超薄的SnO2修饰层能显著增强Cu2O多孔薄膜的光电化学性能。在SnO2溶胶中浸渍10 s所制备的超薄SnO2修饰Cu2O多孔薄膜，其光电流密度是Cu2O未修饰薄膜的4倍。
关键词:
电沉积铜
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氧化亚铜
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二氧化锡
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薄膜
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光电化学
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光电流密度
