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直流反应磁控溅射法制备ZnO: Zr透明导电薄膜

张化福 , 类成新 , 刘汉法 , 袁长坤

人工晶体学报

以Zn∶ Zr为靶材,利用直流反应磁控溅射法制备了ZnO∶ Zr透明导电薄薄膜.研究了沉积压强对ZnO∶ Zr薄膜形貌、结构、光学及电学性能的影响.实验结果表明所制备的ZnO∶ Zr为六方纤锌矿结构的多晶薄膜,具有垂直于衬底方向的c轴择优取向.沉积压强对ZnO∶ Zr薄膜的晶化程度、形貌、生长速率和电阻率影响很大,而对其光学性能如透光率、光学带隙及折射率影响不大.当沉积压强为2Pa时,ZnO∶ Zr薄膜的电阻率达到最小值2.0×10-3Ω ·cm,其可见光平均透过率和平均折射率分别为83.2％和1.97.

关键词: 直流反应磁控溅射 , ZnO∶ Zr薄膜 , 透明导电薄膜 , 沉积压强

直流磁控溅射法制备ZnO:Zr透明导电薄膜及性能研究

张化福 , 类成新 , 刘汉法 , 袁长坤

材料导报

利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ZnO光电性能的影响.研究结果表明,厚度对薄膜的结构和电学性能有很大的影响.制备的ZZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,具有C轴择优取向.在厚度为593nm时,薄膜的电阻率具有最小值1.9×10-3Ω·cm.所制备薄膜样品的可见光平均透过率都超过93%.

关键词: ZnO , Zr薄膜 , 磁控溅射 , 薄膜厚度 , 透明导电薄膜

利用直流磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO: Zr新型透明导电薄膜

张化福 , 类成新 , 刘汉法 , 袁长坤

人工晶体学报

室温下利用直流磁控溅射法在有ZnO缓冲层的柔性衬底 PET上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锆氧化锌(ZnO: Zr)透明导电薄膜,研究了厚度对ZnO: Zr薄膜结构及光电性能的影响.结果表明,ZnO: Zr薄膜为六方纤锌矿结构的多晶薄膜.实验获得ZnO: Zr薄膜的最小电阻率为2.4×10-3 Ω·cm,其霍尔迁移率为18.9 cm2·V-1·s-1 ,载流子浓度为2.3×1020 cm-3.实验制备的ZnO: Zr薄膜具有良好的附着性能,其可见光平均透过率超过92%.

关键词: ZnO∶Zr薄膜 , 柔性衬底 , 直流磁控溅射 , 透明导电薄膜

薄膜厚度对ZnO:Zr透明导电薄膜光电性能的影响

刘汉法 , 张化福 , 类成新 , 袁长坤

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2008.06.013

利用射频磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的ZnO:Zr透明导电薄膜.讨论了厚度对ZnO:Zr透明导电薄膜光学、电学性能的影响.当薄膜厚度为213 nm时,薄膜电阻率达到最小值1.81×10-3 Ω·cm.所制备的薄膜样品都具有高透光率,其可见光区平均透过率超过了93.0%.当薄膜厚度从125 nm增加到350 nm时,薄膜的光学带隙从3.58 eV减小到3.50 eV.

关键词: ZnO , Zr , 透明导电薄膜 , 磁控溅射 , 薄膜厚度 , 光电性能

透明导电薄膜ZnO∶Zr的制备及特性研究

张化福 , 类成新 , 刘汉法 , 袁长坤

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2009.01.013

利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的ZnO∶Zr(ZZO)透明导电薄膜.讨论了溅射功率对ZZO薄膜结构、形貌及光电性能的影响.研究结果表明,溅射功率对ZZO薄膜的结构和电学性能有很大影响.实验制备的ZZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有垂直于衬底方向的c轴择优取向.在溅射功率为115 W时,ZZO薄膜的电阻率具有最小值1.9×10-3 Ω*cm,其霍尔迁移率和载流子浓度分别为18.7 cm2*V-1*s-1和2.07×1020 cm-3.所制备ZZO薄膜样品具有良好的附着性能,其可见光区平均透过率均超过92%.

关键词: ZnO∶Zr薄膜 , 透明导电薄膜 , 溅射功率 , 磁控溅射

利用射频磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO∶Zr透明导电薄膜

刘汉法 , 张化福 , 类成新 , 袁玉珍 , 袁长坤

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2009.02.006

利用射频磁控溅射法首次在室温水冷柔性衬底 PET上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锆氧化锌(ZnO∶Zr)透明导电薄膜.X射线衍射和扫描电子显微镜表明,ZnO∶Zr薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有平行于衬底方向的择优取向.实验获得ZnO∶Zr薄膜的最小电阻率为1.55×10-3 Ω·cm.实验制备的ZnO∶Zr薄膜具有良好的附着性能,其可见光区平均透过率超过90%.

关键词: ZnO∶Zr薄膜 , 柔性衬底 , 磁控溅射 , 透明导电薄膜

直流磁控溅射法低温制备ZnO:Ti透明导电薄膜及特性研究

刘汉法 , 张化福 , 袁玉珍 , 袁长坤 , 类成新

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2009.06.010

利用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺钛氧化锌(ZnO:Ti)透明导电薄膜.SEM和XRD研究结果表明,ZnO:Ti薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向.厚度为437 nm薄膜的电阻率为1.73×10~(-4) Ω·cm.所制备薄膜具有良好的附着性能,薄膜样品在500～800 nm的可见光平均透过率都超过了91%.

关键词: ZnO:Ti薄膜 , 透明导电薄膜 , 磁控溅射 , 光电性能

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