郭继花
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黄致新
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崔增丽
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杨磊
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邵剑波
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朱宏生
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章平
功能材料
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了GdTbFeCo非晶垂直磁化膜,研究了溅射工艺对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响.测量结果表明,基片与靶间距为72mm,溅射功率为75W,溅射气压为0.5Pa,薄膜厚度为120nm时,GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顽力为477.6kA/m,克尔角为0.413°.
关键词:
射频磁控溅射
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GdTbFeCo
,
磁光性能
,
溅射工艺
黄致新
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章平
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张玉龙
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王辉
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吴斌
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张锋
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李佐宜
稀有金属材料与工程
采用射频磁控溅射法制备了TbCo非晶垂直磁化膜,并就制备工艺及参数对其磁各向异性能的影响进行了研究.结果表明:磁性层组分、溅射气压、基片偏压以及后退火温度对TbCo非晶垂直磁化膜的磁各向异性能都有不同程度的影响.当Tb含量为30%左右,或溅射气压为0.53 Pa时,TbCo薄膜的磁各向异性能Ku会呈现极大值.基片偏压超过-60V以后,TbCo薄膜Ku值开始显著上升,但超过-120 V以后,Ku值开始趋向饱和.200 ℃以上真空退火会使TbCo薄膜磁各向异性能Ku值明显下降.产生这些现象的原因与薄膜微观结构的改变有关.
关键词:
TbCo薄膜
,
磁各向异性
,
磁控溅射
,
工艺参数
