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Ni掺杂WOx薄膜的电致变色性能

黄佳木 , 徐爱娇 , 穆尉鹏

材料科学与工程学报

采用磁控溅射工艺,以纯钨和纯镍为靶材在ITO玻璃上制备Ni掺杂WOx电致变色薄膜,研究了Ni掺杂对WOx薄膜电致变色性能和微观结构的影响机理.实验结果表明:均匀掺杂少量的Ni可改变WOx薄膜内部的缺陷分布及结构,提高薄膜的电致变色性能.XRD分析表明,掺杂后的WOx:Ni薄膜为非晶态;XPS分析表明:WOx:Ni薄膜中的Ni为Ni2+.

关键词: WOx:Ni薄膜 , 电致变色 , 掺杂 , 磁控溅射