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TiAl-W-Si合金中的偏析与析出相的分析电子显微术研究

于荣 , 贺连龙 , 程志英 , 朱静 , 叶恒强

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2002.z1.140

用高空间分辨分析电子显微术研究了TiAl-W-Si合金中B2相的析出行为和元素W的分布.结果表明,α2/γ相界面台阶由于W的富集而成为B2析出相的择尤形核位置.B2相中,高达三分之一的Al原子被W原子置换,而在γ相中只固溶了很有限的W.另外,W也偏析在α2/γ和B2/γ相界面上.这些结果合理地解释了W对提高TiAl合金蠕变性能的显著作用.

关键词: 分析电子显微术 , TiAl , 析出相 , 偏析

NiCrAlYSi涂层/IC6合金基体界面区微观结构的TEM研究

邢占平 , 韩雅芳 , 程志英

金属学报

利用真空电弧镀技术在Ni3Al则基合金IC6上沉积NiCrAlYSi涂层.并进行1100℃/100周期的周期氧化实验,然后采用TEM研究了氧化后的涂层与基体界面区的微观结构结果表明,涂层主要由γ孪晶相组成,但在γ孪晶板条内部分布着细小的γ’析出相,它与γ相完全共格在由γ+γ’两相组成的基体影响区内.其γ相内部也存在着细小γ’析出相.

关键词: Ni_3Al , protective coating , interface , microstructure

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