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溅射功率对AZO透明导电薄膜的影响

史永胜 , 陈阳阳 , 宁青菊 , 秦双亮 , 宁磊

材料导报

采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上沉积了AZO透明导电薄膜,并用原子力显微镜观测了薄膜表面形貌,XRD测试了薄膜相结构和单色仪测试了薄膜透射率.结果表明,制备的薄膜具有高度c轴择优取向性,其表面平整,晶粒均匀致密.当溅射功率为180W、溅射气体流量为15sccm、基片温度为200℃时制得的薄膜方阻为10Ω/□,在可见光区平均透射率大于85%.

关键词: AZO , 射频磁控溅射 , 溅射功率 , 方阻 , 透射率