张丛春
,
石金川
,
刘兴刚
,
杨春生
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2008.01.048
采用射频磁控溅射法在Si(100)衬底上制备了LaNiO3薄膜.通过原位加热或后续热处理使薄膜晶化.借助X-ray衍射分析、电感耦合等离子体发射光谱、原子力显微镜等手段研究了溅射工艺对薄膜显微结构的影响.实验结果表明,溅射时是否加热对薄膜的结晶取向影响很大,而氧分压则影响La/Ni比.衬底不加热时,通过后续热处理得到多晶的随机取向薄膜,而当溅射时原位加热300℃,则得到有明显(100)择优取向的薄膜.
关键词:
磁控溅射
,
镍酸镧薄膜
,
择优取向
,
沉积温度
张丛春
,
杨春生
,
石金川
,
丁桂甫
功能材料
采用射频磁控溅射法在Si(100)衬底上制备了LaNiO3薄膜.通过后续热处理使薄膜晶化,并用四探针法测量了薄膜的表面电阻率.借助X射线衍射分析、电感耦合等离子体发射光谱、原子力显微镜等手段研究了溅射工艺及热处理温度对薄膜显微结构的影响.实验结果表明,在氧气氛保护下,于550℃处理1h,薄膜晶化.溅射氧分压在10%～25%之间,700℃热处理时可以得到表面光滑致密且电性能较好的薄膜.
关键词:
磁控溅射
,
LaNiO3薄膜
,
显微结构
,
电阻率
