张馥
,
曾琳
,
王光明
,
石磊
,
石璐丹
电镀与涂饰
提出了一种镀锌层四酸型军绿色钝化工艺.研究了钝化液中4种酸的含量和钝化时间对钝化膜外观和耐蚀性的影响.确定最佳工艺条件为:CrO3 6 g/L,H3PO4 2 mL/L,H2SO4 2 mL/L,H3NO3 3 mL/L,温度25℃,pH 1.5,钝化时间100s.所得钝化膜为光亮的军绿色,耐蚀性较镀锌层好.
关键词:
镀锌层
,
钝化
,
军绿色
,
耐蚀性
石璐丹
,
刘科高
,
张力
,
高稳成
表面技术
目的：获得结晶好、连续均匀的 CuS 薄膜。方法采用电沉积方法制备 CuS 薄膜,研究络合剂、硫源及铜硫离子比例对镀液电化学性能的影响,分析不同沉积电位下所得薄膜的相组成。结果柠檬酸钠的络合效果最好,EDTA 最差；硫代硫酸钠作为硫源时,其还原电位较硫脲为硫源时正,氧化电位较负,水平距离值较小,更容易实现共沉积；铜硫离子比例为1时,施镀最合适。沉积电位为-0.8 V 时,薄膜的XRD 图谱中有氧化亚铜的衍射峰；当沉积电位在-0.9 V 时,生成了 Cu2 S 相；沉积电位在-0.9~-1.2 V时,生成了目标产物 CuS,并且-1.2 V 时的衍射峰强度比较高,结晶良好。结论最佳沉积条件如下：柠檬酸钠为络合剂,硫代硫酸钠为硫源,铜硫离子比为1,沉积电位为-1.2 V。
关键词:
电沉积
,
CuS 薄膜
,
镀液性能
石璐丹
,
刘科高
,
石磊
,
张敏
,
杜长全
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2015.02.006
利用电沉积的方法制备氧化亚铜薄膜,研究了络合剂的种类、浓度、后处理工艺及沉积时间对薄膜成相的影响.研究表明,络合剂柠檬酸钠有利于形成氧化亚铜薄膜;随着柠檬酸钠的浓度增加,薄膜中氧化亚铜含量降低,铜单质含量升高;沉积薄膜后,后处理对薄膜成相影响很大,烘干前不清洗薄膜中含有溶液中物质;随着沉积时间变长,薄膜变厚,然后出现掉膜现象.实验结果表明,选用柠檬酸钠为络合剂,柠檬酸钠的浓度为0.015 mol/L,沉积t为30 min,沉积薄膜后用蒸馏水清洗,制备出结晶良好,表面呈均匀纯相的氧化亚铜薄膜.
关键词:
氧化亚铜
,
电沉积
,
柠檬酸钠
,
纯相
石璐丹
,
石磊
,
刘科高
电镀与涂饰
开发了一种环保的镀锌层三价铬蓝白色钝化工艺.研究了钝化液中CrCl3·6H2O、Na3C6H5O7、NaNO3、钴盐等成分及pH和温度等工艺参数对钝化膜外观和耐蚀性的影响.蓝白钝化的最佳工艺条件为:CrC13·6H2O 48 g/L,NaNO3 20 g/L,Na3C6H5O718g/L,钴盐18g/L,室温,pH 1.5,钝化时间8s.采用最佳工艺所得钝化膜为光亮、均匀的蓝白色,表面平整、致密,耐蚀性优于镀锌层.
关键词:
镀锌层
,
蓝白钝化
,
三价铬
,
耐蚀性
