彭红瑞
,
石玉龙
,
谢雁
,
赵程
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.1999.01.020
研究了用PCVD法所制备的TiN,TiAlN和TiSiN硬质涂层的抗高温氧化性能及TiN涂层在双氧水介质中的抗氧化性能.结果表明,TiAlN,TiSiN涂层在空气中的抗高温氧化温度达700 ℃以上,TiN涂层可达600 ℃.在双氧水介质中,PCVD-TiN涂层仍具有较强的抗氧化能力,且优于PVD-TiN涂层.
关键词:
涂层
,
抗氧化性能
,
等离子体化学气相沉积
,
TiN
,
TiAlN
,
TiSiN
莫伟言
,
石玉龙
电镀与涂饰
室温下用正交试验法确定了2A12铝合金直流脉冲硬质阳极氧化电解液的最优配方:硫酸280 g/L,草酸30 g/L,酒石酸50 g/L,三乙醇胺50 mL/L,硫酸铝7 g/L.研究发现,硫酸对膜层显微硬度影响较大,草酸、酒石酸、三乙醇胺、硫酸铝的影响较小.
关键词:
铝合金
,
硬质阳极氧化
,
正交试验
,
室温
,
脉冲
,
硬度
张欣宇
,
方明
,
吕江川
,
谢广文
,
石玉龙
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2002.08.017
在氢氧化钠、铝酸钠、磷酸二氢钠体系电解液中用微弧氧化法制备铝氧化膜,并得到了电解液温度、浓度及氧化时间对铝氧化膜成膜的关系曲线.微弧氧化工艺处理后氧化膜的厚度可达80 μm以上,显微硬度可达1 560 HV.用X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)分析,观察了氧化膜层相结构和表面形貌.通过耐腐蚀试验可知,由微弧氧化制备的氧化膜有很好的耐腐蚀性.
关键词:
微弧氧化
,
铝合金
,
氧化膜
,
电解液
谢广文
,
石玉龙
,
彭红瑞
,
赵程
电镀与涂饰
doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2000.03.003
化学镀镍磷合金具有很多独特的理化性能,然而由于成本较高限制了其应用.为降低化学镀镍的成本,采用工业级药品配制镀液.研究了镀液中杂质颗粒度对镀层耐蚀性的影响.随着镀液中颗粒度的降低,镀层耐蚀性明显提高,说明化学镀对镀液中的杂质有较高的复合率,因此必须严格控制镀液中的杂质颗粒度.
关键词:
化学镀
,
镍磷合金
,
杂质
,
颗粒度
,
耐蚀性
石玉龙
,
姜辛
无机材料学报
采用微波等离子化学气相沉积(MW-PCVD)制备金刚石/碳化硅复合梯度膜.工作气体为H2,CH4和Si[CH3]4(四甲基硅烷,TMS),其中H2∶CH4=100∶0.6,Si[CH3]4为0％-O.05％,沉积压力为3300Pa,基体温度为700℃,微波功率为700W.基体为单晶硅,在沉积前用纳米金刚石颗粒处理.沉积后的样品经扫描电子显微镜(SEM),电子探针显微分析(EPMA),X射线能量损失分析(EDX)表明:沉积膜中的碳化硅含量是随Si[CH3]4流量的变化而改变.通过改变Si[CH3]4的流量可以制备金刚石/碳化硅复合梯度膜,且梯度膜中金刚石与复合膜过渡自然平滑.
关键词:
微波等离子体化学气相沉积
,
diamond
,
composite gradient film
石玉龙
,
姜辛
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2004.01.042
采用微波等离子化学气相沉积(MW-PCVD)制备金刚石/碳化硅复合梯度膜.工作气体为H2,CH4和Si[CH3]4(四甲基硅烷,TMS),其中H2:CH4=100:0.6,Si[CH3]4为0%～0.05%,沉积压力为3300Pa,基体温度为700℃,微波功率为700W.基体为单晶硅,在沉积前用纳米金刚石颗粒处理.沉积后的样品经扫描电子显微镜(SEM),电子探针显微分析(EPMA),X射线能量损失分析(EDX)表明:沉积膜中的碳化硅含量是随Si[CH3]4流量的变化而改变.通过改变Si[CH3]4的流量可以制备金刚石/碳化硅复合梯度膜,且梯度膜中金刚石与复合膜过渡自然平滑.
关键词:
微波等离子体化学气相沉积
,
金刚石
,
复合梯度膜
毕京锋
,
付强
,
石玉龙
功能材料
采用等离子热丝化学气相沉积(PHFCVD)装置进行了金刚石薄膜的制备实验.实验条件为:氢气流量为200sccm,甲烷流量为2～12sccm,基体温度为700～900℃,偏压为0～400V,真空室压力为4kPa.通过实验得出了甲烷含量、基体温度和偏压对沉积金刚石膜的影响,并运用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和X射线衍射(XRD)等测试方法对金刚石薄膜进行了观察分析.
关键词:
等离子
,
热丝化学气相沉积
,
金刚石薄膜
