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大颗粒在等离子体鞘层中的受力分析与计算

郭慧梅 , 林国强 , 盛明裕 , 王德真 , 董闯 , 闻立时

金属学报

用Edelberg 和Aydil的等离子体鞘层模型, 对电弧离子镀中大颗粒在脉冲偏压鞘层中的带电及受力情况进行了分析和计算, 为大颗粒由于带负电而受到电场力排斥从而被净化的实验现象和物理模型提供佐证。

关键词: 大颗粒 , arc ion plating , pulsed bias

大颗粒在等离子体鞘层中的受力分析与计算

郭慧梅 , 林国强 , 盛明裕 , 王德真 , 董闯 , 闻立时

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2004.10.011

用Edelberg和Aydil的等离子体鞘层模型,对电弧离子镀中大颗粒在脉冲偏压鞘层中的带电及受力情况进行了分析和计算,为大颗粒由于带负电而受到电场力排斥从而被净化的实验现象和物理模型提供佐证.

关键词: 大颗粒 , 电弧离子镀 , 脉冲偏压 , 等离子体鞘层 , 受力分析

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