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退火处理对掺锑Zn-Sn-O薄膜的特性的影响

黄树来 , 姜永超 , 盖凌云 , 徐进栋 , 王雨生 , 马瑾

功能材料

首次在低温下采用磁控射频溅射技术在玻璃衬底上制备出具有多晶结构的掺锑锌-锡-氧(Zn-Sn-O:Sb)透明导电膜.研究了在通氧气氛制备薄膜的特性以及退火处理对制备薄膜结构和光电性能的影响.经真空退火后,氩氧混合气体溅射制备的Zn-Sn-O:Sb透明导电膜的最小电阻率为4×10-2Ω·cm,相应载流子浓度和霍尔迁移率分别为2.1×1019cm-3,8cm2·V-1·s-1.薄膜的可见光平均透过率达到了92.4%.薄膜具有较高的热稳定性和化学稳定性,对玻璃衬底有良好的附着性.

关键词: 磁控射频溅射 , 透明导电膜 , Zn-Sn-O:Sb

无机纳米掺杂对聚酰亚胺薄膜电老化阈值的影响

何丽娟 , 盖凌云

绝缘材料 doi:10.3969/j.issn.1009-9239.2006.02.006

采用电导电流方法分别测试了杜邦公司纳米杂化聚酰亚胺薄膜(100CR)和原始聚酰亚胺薄膜(100HN)未老化、 10 MV/m、 20 MV/m电晕强度 8 h老化后的电导电流,发现杂化膜的电流量比原始膜大近一个数量级,杂化膜未老化时的阈值为 40 MV/m,而原始膜为 35 MV/m,且两者的电老化阈值均随电老化强度的增加而减小.这些数据及曲线的获得对理解聚合物电老化机理和绝缘材料的合成改性提供重要参考价值.

关键词: 空间电荷 , 电老化阈值 , 电导电流

聚酰亚胺薄膜的高场电导特性

张沛红 , 李刚 , 盖凌云 , 雷清泉

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2006.05.004

研究了Dupont原始及耐电晕聚酰亚胺薄膜在10 kV/mm、20 kV/mm电场下电晕老化8 h前后和在不同温度下的高场电导特性.结果表明,原始及耐电晕聚酰亚胺薄膜老化前的电老化阈值分别为35 kV/mm和45 kV/mm,并随着老化电场的增加而下降.随着温度的升高,原始聚酰亚胺薄膜的电老化阈值明显增加,而耐电晕薄膜的电老化阈值略有下降.耐电晕薄膜的电导电流比原始薄膜约大一个数量级.根据空间电荷限制电流与温度的关系,求出原始和耐电晕聚酰亚胺薄膜的陷阱能级分别为0.9 eV和0.7 eV.

关键词: 有机高分子材料 , 聚酰亚胺薄膜 , 电导电流 , 电老化阈值 , 陷阱能级

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