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高温合金GH4065A的恒温静态氧化行为

黄烁 , 张北江 , 田强 , 赵光普 , 胥国华 , 秦鹤勇

钢铁研究学报 doi:10.13228/j.boyuan.issn1001-0963.20150359

研究了新型镍基高温合金GH4065A在650~750℃的静态氧化行为,基于对氧化动力学与氧化产物的分析,探讨了合金的氧化机制.结果表明:采用平均氧化增重速率指标评定GH4065A合金在650~750℃温度范围内均为完全抗氧化级别,试验条件下合金的抗氧化能力与典型涡轮盘材料FGH96、GH4720Li合金相当;合金的氧化产物主要为内层富铝的氧化物颗粒、外侧富铬的氧化物膜及表面金红石型TiO2颗粒,TiO2颗粒在氧化温度超过700℃后开始生成;合金的氧化动力学遵循抛物线型规律,受钛离子与铬离子穿过氧化膜的扩散过程共同控制.

关键词: GH4065A合金 , 变形高温合金 , 静态氧化 , 抗氧化能力

GaAs/Si/AlAs异质结的DLTS实验研究

李永平 , 田强 , 牛智川

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2005.06.018

利用深能级瞬态谱(DLTS)技术研究了Si夹层和GaAs层不同生长温度对GaAs/AlAs异质结晶体品质的影响.发现Si夹层的引入并没有引起明显深能级缺陷,而不同温度下生长的GaAs/Si/AlAs异质结随着温度的降低,深能级缺陷明显增加,并进行了分析,得到深能级是由Ga空位引起的,在600℃时生长的晶体质量最佳.

关键词: 光电子学 , 深能级瞬态谱 , 深能级缺陷 , Si夹层 , GaAs/AlAs异质结

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