张际亮
,
沃银花
,
郦剑
,
甘正浩
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2005.03.028
本文采用低温常压CVD方法制备铝基SiOx陶瓷膜层.以黄铜为对磨材料,使用销-盘式磨损试验机对比研究纯铝表面与SiOx膜层的滑动磨损性能,通过SEM分析磨损的表面形貌并分析其磨损机理.结果表明纯铝表面发生粘着磨损,存在大量塑性变形和折叠,导致片状脱落,磨损率高;SiOx薄膜硬度较高,存在孔隙,表面发生塑性变形、崩塌和磨粒磨损;因薄膜孔隙具有储存润滑剂(水)的作用,磨损率明显低于对比纯铝样品;随沉积时间增加,SiOx膜层变厚,承载能力提高,磨损量减小.
关键词:
铝基SiOx膜
,
APVCD
,
滑动磨损
张际亮
,
郦剑
,
沃银花
,
王幼文
,
甘正浩
材料热处理学报
doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2006.01.017
应用化学气相沉积(CVD)方法在铝表面形成SiOx陶瓷涂层,通过弯曲实验研究了涂层与基体的结合性能.利用扫描电子显微镜(SEM)观察了弯曲部位的表面形貌,弯曲过程表述为表面凹坑与内部孔洞联合长大,形成长条裂纹状沟槽或突脊,最后裂纹长大直至断裂.研究表明,基底与膜层结合良好,形成高结合力的原因是铝基底与表面SiOx膜层间过渡层中的Al-O与Si-O键合能很高,键合稳定.
关键词:
铝基
,
SiOx薄膜
,
弯曲实验
,
结合力
,
机理
