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碲基复合材料薄膜的三阶非线性光学特性

甘平 , 辜敏 , 李强 , 鲜晓东

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2011.00295

采用电化学诱导溶胶-凝胶法在导电玻璃片上制备了具有三阶非线性光学特性的碲基复合薄膜材料. 采用SEM( 扫描电镜)和EDX ( X 光电子能谱)对薄膜的表面形貌和组成进行表征; 应用分光光度计得到薄膜的透射光谱、反射光谱、吸收光谱, 并结合脉冲激光器和 Z 扫描方法测量薄膜的三阶非线性光学特性. 实验结果表明制备的薄膜呈网状结构, 表面组分主要包括Si、Te、O元素; 薄膜在波长为1064nm处呈现负的非线性折射效应和饱和吸收的性质, 其非线性折射系数和非线性吸收系数分别为-4.18×10 - 13 m2/W和-1.6×10 - 6 m/W, 表明了碲基复合薄膜有较强的非线性光学效应, 得到三阶极化率为1.13×10 - 14 (m/V)2, 表明复合薄膜具有优良的三阶非线性光学性能.

关键词: 碲基复合材料 , Thin films , Z-scan technology , third-order opticalnonlinearities

碲基复合薄膜在纳米尺度下的电学特性研究

甘平 , 辜敏 , 卿胜兰 , 鲜晓东

功能材料

分别采用AFM和原子力/扫描探针显微镜(AFM/SPM)在纳米尺度下对碲基复合(Te/TeO2-SiO2)薄膜的表面电势、电容梯度等电学特性进行测量。测试结果表明控制电压为-0.8V,反应时间为200s条件下制备的碲基复合薄膜的表面电势差达到700mV,相对介电常数小于以硅为主要成分的衬底相对介电常数。利用光谱分析,碲基复合薄膜的禁带宽度约为3.14eV。

关键词: 碲基复合薄膜 , 原子力/扫描探针显微镜 , 表面电势 , 电容梯度

碲基复合材料薄膜的三阶非线性光学特性

甘平 , 辜敏 , 李强 , 鲜晓东

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2011.00295

采用电化学诱导溶胶-凝胶法在导电玻璃片上制备了具有三阶非线性光学特性的碲基复合薄膜材料.采用SEM(扫描电镜)和EDX(X光电子能谱)对薄膜的表面形貌和组成进行表征;应用分光光度计得到薄膜的透射光谱、反射光谱、吸收光谱,并结合脉冲激光器和Z扫描方法测量薄膜的三阶非线性光学特性.实验结果表明制备的薄膜呈网状结构,表面组分主要包括Si、Te、O元素;薄膜在波长为1064nm处呈现负的非线性折射效应和饱和吸收的性质,其非线性折射系数和非线性吸收系数分别为--4.18×10-13m2/W和-1.6×10-6m/W,表明了碲基复合薄膜有较强的非线性光学效应,得到三阶极化率为1.13×10-14(m/V)2,表明复合薄膜具有优良的三阶非线性光学性能.

关键词: 碲基复合材料 , 薄膜 , Z扫描法 , 三阶光学非线性

高三阶光学非线性Cd/CdS-SiO2复合薄膜的电化学-溶胶凝胶制备及表征

卿胜兰 , 甘平

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2013.12483

以硝酸镉、硫脲和正硅酸乙酯为前驱体,采用电化学-溶胶凝胶法,以ITO玻璃为基底制备了透明薄膜.扫描电子显微镜(SEM)表征表明薄膜为纳米束结构.X射线能谱(EDX)表征表明薄膜由Si、O、Cd、S元素组成,Cd/S(原子比)>1.EDX表征结合循环伏安(CV)实验确定薄膜为Cd/CdS-SiO2复合薄膜.Z扫描表征表明,薄膜在1064 nm处表现出自散焦特性的非线性折射效应和饱和吸收特性的非线性吸收特性.薄膜的三阶非线性极化率(x(3))较高,达到了1.18×10-14~1.39×10-13 (m/V)2,表明薄膜具有优良的三阶光学非线性.分析认为薄膜中CdS的含量对薄膜的光学性非线性起主要作用.

关键词: 三阶光学非线性 , Cd/CdS-SiO2复合薄膜 , 电化学-溶胶凝胶 , Z扫描

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