孙军
,
孔勇发
,
李兵
,
张玲
,
刘士国
,
黄自恒
,
瓮松峰
,
舒永春
,
许京军
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.03.006
分析了提拉法晶体生长过程中影响滞后变化的因素,采用传统PID调节器和计算机辅助控制相结合的办法,解决了铌酸锂晶体生长过程中的精确等径控制问题,并在大直径铌酸锂晶体生长应用中取得了满意的效果.生长的76mm直径的铌酸锂晶体,生长条纹问题得到很大改善,光学均匀性提高了一个量级以上.
关键词:
等径控制
,
铌酸锂
,
晶体生长
,
光学级
