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电沉积Ni-W合金镀层的X射线光电子能谱分析

王宙 , 许光宇 , 王金玉 , 杨德庄

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2002.04.013

采用X射线光电子能谱(XPS)对电沉积Ni-W合金镀层表面膜进行了分析.研究结果表明,Ni-W合金镀层表面存在一层薄的氧化膜,而钨的氧化作用远大于镍,Ni-W合金镀层中W含量的提高对耐蚀性起决定作用.

关键词: 电沉积 , Ni-W合金镀层 , X射线光电子能谱

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