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射频溅射功率对ZnO透明导电薄膜光电性能的影响

陈肖静 , 王永谦 , 朱拓 , 李果华 , 张光春

人工晶体学报

采用磁控溅射技术在不同溅射功率下制备了ZnO薄膜.研究了薄膜的沉积速率、光电特性以及不同功率条件下制备的ZnO薄膜对HIT电池开路电压的影响.结果表明:在溅射功率为200 W时制备的薄膜,具有良好的导电性和光透过性;将其应用到HIT电池中,得到的开路电压最高.该研究对提高HIT电池性能具有一定的参考意义.

关键词: 磁控溅射 , ZnO薄膜 , 沉积速率 , 光电特性 , HIT太阳电池