王景苏革曹立新柳伟董征赵莉丽宋美芹
材料研究学报
采用恒电位法在FTO玻璃上沉积Co与Ni摩尔比为0.16:1的薄膜, 用X射线衍射仪、扫描电镜和能谱仪分析了膜的成分、结构和形貌, 用紫外--可见分光光度计表征了膜的透光性能, 用循环伏安法表征了膜的电化学稳定性和可逆性, 用双电位阶跃法表征了膜的开关响应时间, 研究了钴掺杂对氧化镍薄膜电致变色性能的影响。结果表明, 钴掺杂使NiO薄膜颗粒更加细小和均匀, 提高了薄膜在可见光波段着色态与消色态之间的透光率差值, 降低了电致变色反应的工作电压, 有利于薄膜在电致变色过程的可逆性, 缩短了着色响应时间。
关键词:
无机非金属材料
,
electrochromic
,
Co-doped NiO film
,
reversibility
