张寅
,
王弘
,
尚淑霞
,
王少伟
,
王民
,
齐尚奎
,
刘希玲
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2000.02.015
本文采用化学溶液沉积(CSD)工艺在Si(100)衬底上制备了Bi4Ti3O12铁电薄膜,这种薄膜的X射线衍射(XRD)结果显示其具有较好的结晶性.运用X射线光电能谱仪(XPS)对薄膜的结构进行了研究,分析结果表明,衬底中Si向镀在其上的Bi4Ti3O12膜层内扩散,影响扩散的主要因素是膜厚及退火温度.
关键词:
铁电薄膜
,
化学溶液沉积法
,
X射线光电子能谱
,
Si扩散
杨雪娜
,
王弘
,
张寅
,
姚伟峰
,
尚淑霞
,
周静涛
,
刘延辉
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.05.008
随着集成电路的飞速发展,SiO2作为传统的栅介质将不能满足MOSFET器件高集成度的要求,需要一种新型High-k材料来代替传统的SiO2,这就要综合考虑以下几个方面问题:(1)介电常数和势垒高度;(2)热稳定性;(3)薄膜形态;(4)界面质量;(5)与Si基栅兼容;(6)工艺兼容性;(7)可靠性.本文综述了几类High-k栅介质材料的研究现状及存在的问题.目前任何一种有望替代SiO2的栅介质材料都不能完全满足上述几点要求.但是,科学工作者们已经发现了几种有希望的High-k候选材料.
关键词:
High-k材料
,
MOSFET
,
栅介质
,
薄膜
周静涛
,
王弘
,
黄伯标
,
许效红
,
姚伟峰
,
张寅
,
杨雪娜
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.05.009
本文综述了近期光催化降解染料废水的研究进展,从光催化剂、反应条件、光降解反应产物及光催化降解染料废水的应用性四个方面介绍了其研究现状, 指出今后的研究方向将集中在新型光催化剂的开发及光催化剂表面改性、光催化体系、光催化降解染料的反应机理及光催化剂与其它水处理技术的结合.
关键词:
光催化
,
染料
,
TiO2
姚伟峰
,
王弘
,
黄柏标
,
许效红
,
杨雪娜
,
周静涛
,
尚淑霞
功能材料
在粒径大小为57~74μm之间的石英空心小球表面成功的镀上一层TiO2薄膜.XRD显示600℃退火时TiO2薄膜结晶性能较好,退火700℃以上开始出现金红石相.镀TiO2薄膜石英空心小球较好的解决了TiO2纳米粉在溶液光降解中易出现的团聚问题.小球衬底的粒径较大,有利于解决TiO2粉状催化剂易出现的难以回收再利用的问题.利用对甲基橙的光降解试验来评估薄膜的催化降解性能,结果表明镀膜小球的光催化性能比TiO2纳米粉的光催化性能要好.
关键词:
石英空心球
,
二氧化钛
,
光降解
周静涛
,
王弘
,
黄柏标
,
许效红
,
姚伟峰
,
张寅
,
杨雪娜
,
功能材料
综述了最近几年TiO2改性的研究,简要介绍了其他光催化材料的研究进展,并结合本课题组的工作,介绍了对一种新型光催化材料Bi-Ti-O系列材料研究的最新进展.指出:今后光催化材料的发展方向仍以TiO2改性的研究为主导;以钛酸铋(Bi4Ti3O12、Bi12TiO20)为代表的新型光催化材料,有着催化效率高,低能隙等突出的优点,有着广阔的应用前景.
关键词:
光催化材料
,
TiO2
,
钛酸铋
王弘
,
高庆
机械工程材料
doi:10.3969/j.issn.1000-3738.2003.12.010
用超声疲劳试验方法(频率为20kHz)测定40Cr钢在105~1010周次范围内的疲劳寿命(S-N)曲线.结果表明,40Cr钢的疲劳寿命(SN)曲线在105~1010周次范围内始终保持下降趋势,在106周次以上没有水平段.超高频疲劳载荷下的S-N曲线同样能用Basquin关系式描述.与常规频率下的疲劳性能相比,高频载荷下的疲劳强度增加.20kHz循环载荷下,40Cr钢107周次的疲劳强度为443MPa,1010周次时为235MPa.
关键词:
40Cr钢
,
超声疲劳
,
疲劳强度