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镁合金化学镀镍工艺

王建泳 , 成旦红 , 张炜 , 李科军 , 曹铁华

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2005.12.013

研究了采用碱式碳酸镍作为镍源在AZ91镁合金表面直接化学镀镍的工艺.该工艺采用酸洗活化一步法,即经过脱脂除油,再用H3PO4、NH4HF2以及缓蚀剂处理,无需活化.通过比较3种酸洗液的应用效果,确定60 mL/L H3PO4,40 g/L NH4HF2,30 g/L H3BO3的混合液作为酸洗液.酸洗最佳pH约为2,时间为25 s.实验发现,该法较HF活化得到的镀层表面颗粒更均匀.该Ni-P镀层结合力合格,硬度可达356.7 HV.讨论了热处理温度对镀层硬度的影响,结果表明随热处理温度的提高,镀层硬度也随之提高,在热处理温度为250 ℃时,硬度达最大.通过Tafel 曲线分析得出,AZ91镁合金采用该工艺进行化学镀镍后,耐蚀性有了很大改善.

关键词: 镁合金 , 化学镀镍 , 预处理

超大集成电路互连线电沉积铜的研究动态

张炜 , 成旦红 , 王建泳 , 郁祖湛

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2005.12.011

铜具有比铝更低的电阻率、更优异的抗电迁移性能,使用铜作为互连线材料不但可以减少RC延迟,而且还能提高集成电路的可靠性.在超大规模集成电路(ULSI)制造中用铜取代铝作为互连材料的铜互连技术发展非常迅速,铜互连工艺采用了许多新的技术,其中电沉积铜就是核心技术之一.介绍了目前ULSI铜互连中电沉积铜技术所涉及到的镀液组成、脉冲电流的应用、电沉积装置和性能等方面的研究状况.

关键词: 电沉积铜 , 脉冲电沉积 , 超大规模集成电路 , 互连

银-纳米SiO2脉冲复合电镀工艺条件的优化与性能研究

苏永堂 , 成旦红 , 张庆 , 王建泳 , 郭长春

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2005.10.002

采用正交试验,以镀层显微硬度为评价标准,得到银-纳米SiO2脉冲复合电镀的最佳工艺条件为:6 mg/L的阳离子表面活性剂,100mg/L的非离子表面活性剂,15g/L的纳米SiO2,脉宽0.5ms,占空比40%,脉冲平均电流密度0.8~1.1A/dm2.正交试验结果表明,纳米SiO2含量对镀层的影响较大.该镀液分散能力(采用远近阴极法测定)为61%,覆盖能力近似为100%,镀层硬度为246.5HV,钎焊性较好.经研究发现,空气搅拌较机械搅拌更有利于纳米微粒在镀层中的分散.XRD测试得出,复合镀层在(111)面上的择优取向得到显著加强,进一步证实该镀层结晶致密,耐蚀性较纯银镀层好.

关键词: 脉冲电镀 , 银-纳米SiO2复合镀层 , 正交试验 , 硬度 , 分散能力 , 覆盖能力 , 钎焊性

AZ31镁合金无氰化学镀镍工艺的研究

王建泳 , 成旦红 , 张庆 , 李科军 , 苏永堂

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2006.03.013

研究了在AZ31镁合金表面二次浸锌后直接进行化学镀镍的工艺.分析了pH、温度、镍离子质量浓度和次磷酸钠质量浓度对镀速的影响,并测试了镀层的结合力、表面形貌、成分含量和耐蚀性.结果表明,以二次浸锌法进行预处理,无需氰化镀铜打底;在pH为7,碱式碳酸镍质量浓度25g/L,次磷酸钠质量浓度30g/L时,镀速有最大值;AZ31镁合金化学镀镍后耐蚀性明显提高,腐蚀电位从-1.52 V提高到-0.55 V;化学镀镍的优化参数为15g/L碱式碳酸镍,25g/L次磷酸钠,pH为6,温度82℃.

关键词: 镁合金 , 化学镀镍 , 镍磷合金AZ31 , 腐蚀电位

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