王应民
,
杜楠
,
孙云
,
张萌
,
蔡莉
,
李禾
,
程国安
,
徐飞
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2007.03.009
利用薄膜分析系统测量不同沉积时间制备的ZnS薄膜透射谱,通过分析薄膜透射谱,来确定ZnS薄膜光学常数和禁带宽度.实验结果表明,在线性生长阶段,薄膜的沉积速率大约为1 nm/min,具有很好的线性关系,沉积0.5 h的ZnS薄膜在可见光范围内光透过率为82%左右.
关键词:
化学水浴沉积法
,
ZnS薄膜
,
消光系数
,
禁带宽度
王应民
,
杜楠
,
蔡莉
,
李禾
,
程国安
材料工程
doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2007.11.017
使用薄膜分析系统研究在不同衬底温度下生长的硅基ZnO薄膜反射谱,了解衬底温度对薄膜的结晶状况影响.研究结果表明,随衬底温度的升高,晶粒之间融合长大,薄膜的折射率增大;在衬底温度450℃时生长的ZnO薄膜,薄膜的折射率最大为4.2,反射谱的吸收边更接近380nm,在520nm处有一个弱的吸收峰,与ZnO薄膜的PL谱测试结果一致.再升高衬底温度,晶粒会出现异常长大,晶粒排布将受到影响,导致薄膜折射率下降.
关键词:
Si(111)
,
ZnO薄膜
,
等离子增强化学气相沉积
,
反射光谱
