赵飞
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冯修吉
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龙世宗
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孙文华
,
王少阶
,
张才国
材料研究学报
对水泥矿物之一β-C_2S 的粉磨过程进行了摩擦化学研究,用X 射线微观应力测定法和正电子湮没技术(PAT)测定了粉磨过程中β-C_2S 晶格畸变和结构缺陷的变化,从形变的微观机制对测试结果进行了探讨。测定了不同粉磨时间样品的比表面积,粒径分布和水化放热速率,解释了不同大小颗粒水化活性差异的原因。
关键词:
粉磨
,
tribochemistry
,
microstress
,
positron annihilation
,
hydraulic activity
黄长虹
,
朱玉婵
,
马莉
,
王建波
,
王少阶
功能材料
利用沸石分子筛中规则的孔洞,制备了CdSe半导体纳米团簇样品.正电子湮没寿命谱及高分辨透射电子显微镜表明CdSe团簇生长在沸石的笼内以及沸石的表面,随着CdSe在沸石分子筛中质量比的增加,CdSe更多的聚集在沸石的表面.
关键词:
沸石分子筛
,
半导体纳米团簇
,
正电子湮没
,
高分辨透射电镜
苏本法
,
王柱
,
黄长虹
,
王少阶
原子核物理评论
doi:10.3969/j.issn.1007-4627.2005.03.008
测量了Ti,Ni,Cu,Al以及Si的符合多普勒展宽谱.对于Ni的多普勒展宽谱,采用最小二乘法拟合得出其中的源强度.给出了源修正前后湮没量子在Si中的多普勒展宽谱,讨论了源成分的影响.用高斯-抛物线模型拟合多普勒展宽谱,将多普勒展宽谱中自由电子的湮没贡献和束缚电子的湮没贡献分开,进而探讨了只对束缚电子的湮没贡献做源修正的方法.
关键词:
正电子湮没
,
符合多普勒展宽谱
,
源修正
,
最小二乘法
李辉
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周凯
,
王柱
,
陈志权
,
王少阶
原子核物理评论
在保留正电子寿命谱分析程序PATFIT和连续谱分析程序MELT主要优点的基础上研究开发了一个新的正电子湮没谱分析软件PASA。主要的改进包括：将PATFIT、MELT和多普勒展宽谱3种正电子湮没分析方法集成在Windows界面程序中,MELT程序脱离MATLAB环境独立运行;编写了完整的多普勒展宽谱分析程序,谱文件的读取、输入参数的调节和拟合结果的输出更加方便快捷,重点加强了正电子湮没实验谱和拟合结果的图形显示。介绍PASA软件的使用经验。
关键词:
正电子湮没谱分析
,
数据拟合
,
图形显示
