董茂进
,
张玲
,
王多书
,
熊玉卿
,
王济洲
宇航材料工艺
doi:10.3969/j.issn.1007-2330.2015.01.004
以光学滤光片薄膜边缘应力作为对象,研究了Ge/ZnS单、多层光学薄膜应力的变化规律.通过实验研究了离子束轰击能量以及真空退火温度等因素对Ge/ZnS光学薄膜应力类型、大小、变化及其分布的影响规律.ZnS薄膜的应力为压应力,采用离子束辅助工艺后薄膜边缘应力变得均匀;真空退火使ZnS薄膜的应力减小为原来的一半.通过优化沉积参数和张应力、压应力薄膜的组合降低了Ge/ZnS多层光学薄膜的应力,结果表明其平均应力分别为0.1 MPa,而且处于压应力状态.
关键词:
光学薄膜
,
边缘效应
,
应力模型
