褚颖
,
成艳
,
郑玉峰
,
周艺
,
王彦波
,
熊晓玲
,
魏世成
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2010.04.001
采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,在聚碳酸酯(PC)树脂片上沉积类金刚石(DLC)薄膜,以获得耐磨性和透光性良好的光学镜片.研究了薄膜的沉积工艺对PC基体镀DLc薄膜耐磨性和透光性的影响.结果表明:PC树脂片上沉积DLC薄膜后,耐磨性有极大的提高,摩擦系数降低了70%左右,显微硬度增加了约30%且随着沉积时间增加而增加,但透光率由约90%降至80%～70%.薄膜样品的耐磨性和透光性与样品的粗糙度、形貌及组成有关.
关键词:
PC树脂
,
DLC薄膜
,
PECVD
,
耐磨性
,
透光性
胡睿
,
熊晓玲
,
王关全
,
魏洪源
,
张华明
,
杨玉青
材料保护
传统的化学镀镍前处理会对单晶硅造成严重影响,进而影响两者的结合.以单因素条件设计并结合4因素3水平正交试验,对单晶硅表面进行改性活化处理,优选出化学镀镍的处理条件为:羟基化处理15 h,偶联处理48 h,再在化学镀液中于90℃下施镀1 h,在此条件下对单晶硅化学镀镍可以获得的沉积速度高达6.137mg/(cm2·h),且镀层与硅片结合牢固,颗粒品质优良.
关键词:
化学镀镍
,
自组装单分子层技术
,
单晶硅
,
正交试验
胡睿
,
张华明
,
熊晓玲
,
王关全
,
杨玉青
,
刘国平
电镀与涂饰
以尺寸不规则的Y1Cr18Ni9不锈钢片为基底,研究了在约2 mL镀液的条件下,化学镀镍工艺中主盐与还原剂浓度之比、pH、反应时间及反应温度对镀层沉积速率的影响.结果表明:当c(Ni2+):c(H2PO2-)=0.75:1,pH为6,温度为77℃,反应2 h的条件下,镀层沉积速率快,含镍量高于72%,且颗粒分布均匀、密实.
关键词:
不锈钢
,
化学镀镍
,
酸度
,
沉积速率
胡睿
,
杨玉青
,
王关全
,
熊晓玲
,
张华明
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2009.02.020
在传统化学镀镍工艺中,硝酸镍不是直接施镀的主盐,但在一些特殊使用需求的情况下只能使用硝酸镍作原料.研究了以硝酸镍为原料,通过不同的沉淀剂,采用离心-沉淀-再溶解法以及灼烧法将硝酸镍转化成硫酸镍,将硝酸根去除后间接实现化学镀镍.研究结果表明:采用草酸工艺可以得到镍离子转化率高、硝酸根除去效果好的硫酸镍溶液,采用该溶液配制的化学镀镍液制备出的镀层具有均匀、致密,粒径1～2μm,双面沉积量大于5mg/cm2,含镍量72%以上等特征.
关键词:
化学镀镍
,
硝酸镍
,
镀层
胡睿
,
魏洪源
,
熊晓玲
,
张华明
,
王关全
,
杨玉青
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2010.04.019
曲面换能单元的核电池中镍-63的加载难以用常规源片加载法实现.采用偶联技术,对功能高分子膜的表面用偶联剂改性后进行活化处理,初步制备了镀有非放镍的高分子薄膜,并分析了此工艺的反应机理.采用该工艺可避免常规化学镀镍方法中试剂对半导体材料的损伤.
关键词:
核电池
,
镍
,
加载
胡睿
,
熊晓玲
,
邓建
,
董文丽
,
彭太平
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.07.029
目的：为了获取与90Sr同位素电池匹配的放射源，研发一种在指定非金属衬底材料上制作薄膜型90Sr放射源的工艺。方法双环己烷-18-冠醚-6是一种既可配位锶离子，又具有良好抗辐照性能的分子，采用配位法将硝酸锶负载在该冠醚分子上，并溶解于高分子成膜剂中，在衬底材料上滴加后，自然晾干制备成含锶膜层。对制备结果进行了IR、TG、DSC、EDS、元素分析表征，考察了膜与衬底材料之间在经过116 kGy剂量的γ辐照前后的结合力。结果该工艺实现了锶加载率大于93%，辐照后薄膜振荡掉粉率的增加小于1.3%。示踪实验表明，薄膜中表征锶分布不均匀性的相对标准偏差在7%左右。结论该工艺能够在衬底材料上获取90Sr放射性薄膜，膜与衬底之间结合牢固，锶分布均匀性满足相关行业标准。
关键词:
90Sr
,
双环己烷-18-冠醚-6
,
配合物
,
抗辐照性
,
同位素电池
