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利用静电自组装工艺在石英衬底上制备了结构有序的TiO2/PSS纳米复合膜,并采用UV-Vis-NIR分光光度计、原子力显微镜(AFM)对复合膜的结构与光催化性能进行了深入的研究.结果表明:有序多孔TiO2颗粒膜具有良好的光催化性能,能够在短时间内降解掉复合膜中有机成分,烧结处理薄膜的光催化性能明显优于紫外照射处理的样品.

关键词: 静电自组装 , 二氧化钛 , 光催化

分子自组装制备的掺杂WO3的TiO2光催化薄膜的表征

张俊英 , 郑树凯 , 郝维昌 , 潘锋 , 王天民

稀有金属材料与工程

利用分子自组装技术在载波片上制备了锐钛相TiO2及WO3掺杂的TiO2薄膜.利用原子力显微镜(AFM)和UV-VIS-NIR分光光度计对薄膜进行了表征.利用对罗丹明B的降解评价了所制备薄膜的光催化活性.结果表明:当W/Ti=2at%时,TiO2薄膜的光催化活性得到提高.

关键词: TiO2薄膜 , WO3掺杂 , 光催化活性

CeO2掺杂TiO2催化剂薄膜的制备与表征

郑树凯 , 潘锋 , 王金良 , 郝维昌 , 张俊英 , 王天民

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2003.11.006

以Ar为工作气体,O2为反应气体,利用射频磁控溅射技术成功地在载玻片上沉积了透明TiO2催化剂薄膜.同时利用共溅射技术制备了掺杂CeO2的TiO2催化剂薄膜.采用X射线衍射(XRD)、Raman光谱、UV-VIS-NIR分光光度计、原子力显微镜(AFM)对薄膜进行了结构和形貌表征.

关键词: TiO2薄膜 , CeO2掺杂 , 共溅射

分散聚合法制备聚苯乙烯微球及其机理研究

张巍巍 , 张俊英 , 平梁良 , 潘锋 , 王天民 , 陈子瑜

功能材料

采用苯乙烯(St)为反应单体,偶氮二异丁腈(AIBN)为引发剂,聚乙烯基吡咯烷酮(PVP)为分散剂,无水乙醇和去离子水为分散介质,通过改变反应物质的浓度,制备出平均粒径为1.17、1.66、2.04、2.26、2.90和3.04μm,单分散性好的聚苯乙烯微球.并对其生长机理进行了深入探索,建立了生长模型,考察了引发剂半衰期在微球生长过程的影响,并证明了分散剂在微球表面是一种物理吸附作用.

关键词: 聚苯乙烯微球 , 分散聚合法 , 生长机理

SnO2掺杂TiO2静电自组装薄膜的制备及性能

潘锋 , 张俊英 , 郝维昌 , 王天民 , 郑树凯

稀有金属材料与工程

采用静电自组装工艺在石英衬底上制备了SnO2掺杂的TiO2薄膜,利用原子力显微镜(AFM),X射线光电子能谱(XPS),紫外可见分光光度计(UV-Vis)表征了薄膜的微结构及性能.薄膜的吸收光谱及光催化实验结果表明,SnO2掺杂可以明显改善薄膜的光吸收,提高TiO2薄膜的光催化性能.

关键词: 静电自组装 , TiO2 , SnO2掺杂 , 光吸收 , 光催化

不同靶材料的高功率脉冲磁控溅射放电行为

吴忠振 , 田修波 , 潘锋 , 付劲裕 , 朱剑豪

金属学报 doi:10.11900/0412.1961.2014.00160

选择具有不同溅射产额的靶材料(Cu,Cr,Mo,Ti,v和C),研究了其高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)放电靶电流波形随靶电压的演化行为.发现所有材料都满足5个阶段顺序放电特征,但是不同溅射产额的材料的相同放电阶段所需要的靶电压呈现先增加后下降的趋势,根据放电难易的不同分别表现出一定阶段的缺失.对其靶电流平均值、峰值和平台值的统计显示,溅射产额高的靶材料自溅射容易,平台稳定,对靶电流的贡献主要为平台值(金属放电),比较适用于HPPMS方法沉积薄膜;而溅射产额低的靶材料气体放电明显,靶电流主要由峰值(气体放电)贡献,不利于薄膜沉积.

关键词: 高功率脉冲磁控溅射 , 溅射产额 , 靶电流 , 靶电压