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网状阴极法在碳钢表面沉积氮化钽薄膜的研究

窦瑞芬 , 田林海 , 潘俊德 , 陈飞 , 赵晋香

材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2002.02.014

介绍了一种在钢铁基体上制备氮化钽薄膜的新方法--网状阴极法.其设备简单、价格低廉.实验中发现,在工艺参数调配合适的条件下,可制备出结构为面心立方和密排六方结构的氮化钽薄膜.薄膜较致密且均匀,与基体结合良好.分析了优选工艺参数条件下合成的氮化钽膜的成分、组织、表面和断口形貌及结合力.

关键词: 网状阴极溅射 , 空心阴极效应 , 氮化钽薄膜

网状阴极辉光放电法在钛合金表面渗镀Ta的应用

陈飞 , 张跃飞 , 潘俊德 , 唐宾 , 窦瑞芬 , 徐重

稀有金属材料与工程

设计了一种网状阴极溅射靶,它是由多个空心阴极并列交叉组合而成.结构简单,溅射率高.将其用于双层辉光离子渗钽中,在钛合金(Ti-6Al-4V)表面可形成纯Ta沉积层和合金扩散层的复合层组织,进一步提高了钛合金的 耐蚀性,是一种高耐蚀合金.

关键词: Ti-6Al-4V , 阴极溅射 , 渗镀钽

工艺参数对电子浴辅助阴极电弧源法合成AlN薄膜的影响

潘俊德 , 田林海 , 莘海维 , 贺琦

中国有色金属学报

介绍了一种应用电子浴辅助阴极电弧源法合成AlN薄膜的新方法, 研究了N2流量、 阴极偏压、工作气压等工艺参数对合成AlN薄膜质量的影响规律。结果表明, 随N2流量的增加,AlN薄膜的质量得以提高,当N2流量达到30mLmin-1时,可合成较纯净的AlN薄膜; 阴极偏压主要影响合成薄膜的结晶状况;此外,基体材料本身及其表面状况也对合成薄膜的质量有一定影响。

关键词: 阴极电弧源法 , AlN薄膜 , 电子浴

纯铜离子渗镀钛层的耐蚀性

张跃飞 , 陈飞 , 苏永安 , 潘俊德 , 徐重

中国有色金属学报

采用加弧辉光离子渗镀技术, 实现了在纯铜表面形成均匀的渗镀钛层. 用电化学测试技术对渗镀层在0.5moL/LH2SO4溶液中的耐蚀性进行了对比试验研究. 结果表明渗镀钛层的耐蚀性能大大提高, 与钛板相当, 并对渗镀层钛浓度的分布、渗镀层显微硬度、渗镀层相的结构进行了测定.

关键词: 加弧辉光 , 离子渗钛 , 耐蚀性

基体温度对Ti6Al4V表面渗Mo合金层性能的影响

李秀燕 , 范爱兰 , 唐宾 , 潘俊德 , 田林海 , 徐重

中国有色金属学报

利用双层辉光离子渗金属技术在Ti6Al4V表面渗Mo,形成了表面改性合金层,就910~990℃渗Mo时基体温度对表面合金层性能的影响进行了研究.结果表明,渗Mo后的表面合金层由扩散层和沉积层组成,沉积层呈(211)晶面的择优取向.随着基体温度的升高,扩散层的厚度增加,并且合金层表面粗糙度增大.渗Mo后的表面合金层硬度较基体Ti6Al4V的大大提高,而基体温度变化对合金层硬度没有明显影响.用涂层压入仪对沉积层和扩散层间的结合强度进行了评定.研究表明,随着基体温度的升高,临界压入载荷pc增大,沉积层和扩散层间的结合强度增大.

关键词: 双层辉光离子渗金属 , Ti6Al4V , Mo , 组织 , 性能

加弧辉光渗Ti在石墨电极上的应用

陈飞 , 田林海 , 张跃飞 , 潘俊德

机械工程材料 doi:10.3969/j.issn.1000-3738.2002.06.007

介绍了一种新的表面合金化技术--加弧辉光离子渗钛技术.利用该技术可在石墨板上形成均匀的渗钛层.试样在0.5mol/LH2SO4溶液中进行电化学腐蚀测试,结果表明:渗钛石墨电极比石墨电极的耐蚀性有很大提高,与钛板的抗腐蚀性能相当.探讨了渗层钛浓度分布,并用X射线衍射对渗层相组成进行了分析.

关键词: 加孤辉光 , 离子渗钛 , 石墨阳极

Ti6Al4V辉光等离子渗铝摩擦磨损性能研究

段良辉 , 刘亚萍 , 彭建盛 , 郭朝丽 , 潘俊德

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2007.01.002

利用双层辉光等离子渗金属技术在Ti6Al4V上渗铝以提高材料的摩擦磨损性能,对渗铝层的相结构和显微硬度进行了测试.采用球盘滑动磨损试验机对渗层进行摩擦磨损性能测试.结果表明:渗铝后渗层由Al3Ti和Al组成,材料的硬度值较基体Ti6Al4V有了很大的提高;材料摩擦因数和磨损体积减小,耐磨性得到提高.通过磨痕形貌分析可知,渗层磨损机制为粘着磨损.可见采用辉光等离子渗铝技术改善了材料的摩擦磨损性能.

关键词: Ti6Al4V , 渗铝 , 摩擦磨损 , 粘着磨损

钛合金表面加弧辉光离子无氢渗碳耐蚀性能的研究

陈飞 , 周海 , 张跃飞 , 潘俊德

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2003.04.018

提出一种新的钛合金表面强化方法,利用加弧辉光离子无氢渗碳技术在钛合金表面形成渗碳层.该方法是在加弧辉光离子渗镀技术中引入由高纯石墨制成冷阴极电弧石墨靶,按冷阴极场致发射机制,源源不断地从电弧石墨靶上发射出高能量、高密度、高离化率、高速度的离子流,成功的在钛合金(Ti6Al4V)基材表面形成25~30μm 厚的渗碳层,同时避免了氢元素对钛合金造成的氢脆问题.电化学腐蚀试验表明钛合金无氢渗碳后耐蚀性能得到提高,在0.5mol/L的稀硫酸腐蚀介质中,耐蚀性提高7倍多.渗碳后钛合金表面显微硬度达到936(HV).其中,渗碳层相结构采用XRD进行检测.

关键词: 钛合金 , 加弧辉光放电 , 离子无氢渗碳 , 耐蚀性能

Cr-N硬质镀层的断裂韧性和冲击疲劳特性研究

田林海 , 朱晓东 , 唐宾 , 潘俊德 , 何家文

稀有金属材料与工程

采用离子束辅助磁控溅射技术(IBAMS)沉积Cr-N硬质镀层,用压入法评定镀层的断裂韧性,多次冲击试验法测定镀层的多冲疲劳抗力,探讨了多冲疲劳抗力与镀层组织结构和断裂韧性等机械性能的关系.结果表明,通过调节离子束辅助轰击能量,可以提高Cr-N镀层的硬度和断裂韧性.镀层断裂韧性的提高除了与晶块尺寸减小有关外,还与离子轰击导致镀层致密度增加相关.在冲击载荷作用下Cr-N镀层的失效方式为内聚力型疲劳剥落,随硬度和断裂韧性增加,镀层的抗多次冲击疲劳能力提高.

关键词: Cr-N镀层 , 离子束辅助磁控溅射 , 断裂韧性 , 多次冲击

镁合金微弧氧化陶瓷膜的微观结构、相成分和耐腐蚀性能

刘亚萍 , 段良辉 , 潘俊德 , 崔彩娥 , 缪强 , 徐重

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2006.02.014

为获得耐腐蚀性优良的镁合金表面膜层,在含5 g/L硅酸钠、2 g/L磷酸钠和1 g/L氢氧化钠的复合溶液中,用自制设备对AZ91D镁合金进行了微弧氧化.利用扫描电镜和X射线衍射分析了AZ91D 镁合金表面微弧氧化陶瓷膜的表面形貌、截面结构和相组成.结果表明:AZ91D 微弧氧化陶瓷膜由疏松层和致密层组成,疏松层陶瓷膜疏松,厚度较大,且存在一些孔洞;致密层陶瓷膜与基体金属结合紧密,陶瓷膜主要由MgO,Mg2SiO4,Mg3(PO4)2和MgAl2O4组成.在3.5%的NaCl溶液中,微弧氧化陶瓷膜的自腐蚀电位为-1 390 mV,而镁合金基体的为-1 540 mV,表明经微弧氧化处理后AZ91D 镁合金的耐蚀性有较大提高.

关键词: 微弧氧化 , 镁合金 , 耐蚀性 , 陶瓷膜 , 相成分

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