姜洪义
,
郑威
,
海鸥
,
李明
,
徐东
材料科学与工程学报
doi:10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2017.02.011
为了制备低折射率疏水SiO2薄膜,将正硅酸乙酯(TEOS)和二甲基二乙氧基硅烷(DDS)在碱性条件下共水解缩聚,再以六甲基二氮硅烷(HMDS)做进一步的改性,采用提拉浸渍工艺在玻璃基底上制备单层增透膜.通过对溶胶粘度随老化时间的变化规律及HMDS添加对薄膜接触角影响等的分析与研究,制备了接触角最大的低折射率薄膜;同时对薄膜的红外特性、透过率、折射率进行了表征.结果表明:TEOS和DDS共水解缩聚提高了膜层疏水性,经HMDS改性后,薄膜的接触角为149°,折射率为1.12.
关键词:
溶胶-凝胶
,
疏水
,
折射率
,
改性
