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FFS产品树脂材料结构ITO刻蚀技术研究

姜晓辉 , 张家祥 , 王亮 , 郭建 , 沈奇雨 , 曲连杰 , 张文余 , 田宗民 , 阎长江

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20132802.0194

树脂材料表面平坦度高,光透过率高,介电常数低(e≈3.5),在薄膜晶体管显示器(TFT-LCD)中使用树脂材料作为钝化层,可以降低公共电极和源、漏金属之间的电容,降低逻辑功耗,达到降低整体功耗的目的,同时增大开口率.文章讨论在边缘场中引入树脂材料作为钝化层产生的与氧化铟锡(ITO)刻蚀相关问题:金属Mo腐蚀,ITO缺失等.通过优化刻蚀工艺,感光树脂与非感光树脂和ITO刻蚀液的搭配,以及改变树脂涂胶工艺,成功地将树脂引入TFT-LCD中.

关键词: 树脂材料 , ITO刻蚀 , ITO刻蚀液 , 涂胶工艺

TFT-LCD 制程中 Sand Mura 的失效模式分析及改善研究

史高飞 , 沈奇雨 , 许徐飞 , 宋洁 , 赵娜 , 韩基挏 , 李乘揆

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20153002.0257

在薄膜晶体管液晶显示器件(TFT-LCD)的制作过程中,Mura 是一种常见的不良现象,它可以直接影响到产品的画面品质.本文结合生产工艺的实际情况,采用宏观微观检查设备 Macro/Micro(M/M)、扫描电子显微镜(SEM)、聚焦离子束测试仪(FIB)等设备进行检测分析,研究了产品开发过程中出现的 Sand Mura 问题.实验结果表明,Sand Mura发生的主要原因是像素电极 ITO 在刻蚀过程中由于过刻发生断裂,导致在通电时该处液晶分子偏转发生异常,进而阻挡了光的透过而形成暗点;通过变更 ITO 薄膜的厚度及刻蚀时间等一系列措施,防止了像素电极在 PVX 过孔处因过刻引起的断裂,不良发生率降至0.3%,产品质量得到了很大的提高.此外,过孔设计优化方案有助于新产品开发阶段避免该不良的发生,为以后相关问题的研究奠定了一些理论基础.

关键词: TFT-LCD , Sand Mura , 过刻 , 厚度 , 刻蚀时间

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