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刘涛 , 郦剑 , 沈复初 , 王幼文
材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2002.04.010
采用常压CVD方法在铝合金基底上制备出硅氧化合物陶瓷膜层.使用SEM、TEM及XPS仪分析了膜层形貌、成分和组织结构,通过180°、90°弯曲实验和450 ℃热冲击实验考察了陶瓷膜层与基片的结合性能,证实该技术制备的膜层与基底的结合强度很高.
关键词: 化学气相沉积(CVD) , SiOx膜层 , 结合强度
刘立 , 沈复初 , 袁骏 , 叶必光 , 田丽 , 郦剑
材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2001.02.032
本文综述了近十几年来CVD技术在不同基底材料上制取含硅化合物膜层的研究应用,并提出了目前存在的问题.
关键词: CVD , 含硅化合物膜
