段钢锋
,
赵高凌
,
林小璇
,
吴历清
,
杜丕一
,
翁文剑
,
汪建勋
,
韩高荣
功能材料
在普通玻璃基板上利用常压化学气相沉积法在580℃条件下制备得到了氮化钛薄膜.对薄膜的结晶性能、断面形貌、方块电阻以及光学透过率和反射率进行了研究.随着沉积时间的增长,薄膜由单层结构变为一种特殊的双层结构,这种双层结构的形成是沉积过程中气相成核机制引起的.光谱结果显示制备得到的薄膜具备一定的阳光控制性能.然而,双层薄膜的红外反射率随沉积时间的增长迅速降低,影响了其阳光控制性能.
关键词:
氮化钛
,
常压化学气相沉积法
,
沉积时间
,
结构
,
阳光控制性能
李秀明
,
赵高凌
,
刘史敏
,
应浩
,
刘军波
,
汪建勋
,
韩高荣
功能材料
采用热重-微分热重-差示扫描量热(TG-DTA-DSC)同步热分析方法,对低铝高硼硅玻璃(ABS)熔制过程中发生的理化反应进行研究.作为比较,对普通钠钙硅玻璃(NCS)的性能做了相应的研究.通过粘度测试分析发现,所制备的低铝高硼硅玻璃软化点接近800℃,具有极好的耐热性.其工作温度和熔化温度较NCS均有大幅提高,分别为1375～1160℃和1699℃.热膨胀曲线表明所制备的ABS具有非常低的热膨胀系数, α(20～300℃)=3.9×10-6K-1,具有优良的抗热震性.
关键词:
低铝高硼硅玻璃
,
熔制过程
,
同步热分析
,
粘度
刘史敏
,
赵高凌
,
李秀明
,
应浩
,
刘军波
,
汪建勋
,
韩高荣
功能材料
采用高温熔融的方法,在空气中制备了一系列添加不同网络修饰体氧化物的Eu2 O3和Dy2 O3共掺杂铝硼硅酸盐玻璃,并测试了其在紫外光激发下的发光性能.从发射谱中可以看到归属于Eu2+、Eu3+和Dy3+离子能级跃迁的蓝、绿、黄、红等多色发射带共存.这些发射带之间的相对强度会随着网络修饰体氧化物的改变而变化,从而导致发光色度的变化.加入适当的网络修饰体氧化物可得到合适的白光发射.此外,在空气中制备过程中发生了Eu3+→Eu3+的还原反应.用Li2O取代ZnO时,该还原反应程度降低,而用CaO取代BaO时该还原反应程度增强,其机制与玻璃组分的光碱度有关.
关键词:
稀土
,
玻璃
,
铝硼硅酸盐
,
白光发光
吕树欣
,
刘涌
,
宋晨路
,
汪建勋
,
韩高荣
材料科学与工程学报
采用数值模拟方法,对火焰空间和玻璃池窑之间的热耦合模拟可行性进行研究,以玻璃液表面中轴线温度偏差作为比较标准,判断热耦合过程是否收敛。研究结果表明：在六至七次循环迭代后计算结果可收敛,而且热耦合模拟的收敛速度与给定的初始条件有关。建立燃天然气富氧助燃玻璃熔窑模型,与火焰空间、玻璃池窑单独模拟相比,热耦合模拟的结果能够更准确地反映喷枪燃料分布等条件对玻璃液流动情况及温度分布的影响,更为细致全面地模拟出玻璃液表面热传输的不均匀性。
关键词:
火焰空间
,
玻璃液
,
耦合模拟
吴玲
,
赵高凌
,
段钢锋
,
汪建勋
,
韩高荣
功能材料
利用常压化学气相沉积法(APCVD)在玻璃基板上沉积制备了钒(V)掺杂的氮化钛(TiN)薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、光电子能谱仪(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、四探针电阻仪和分光光度计等对TiN薄膜的结构、形貌、以及光电性能进行了分析.结果表明,薄膜呈典型的粒状结构.随着沉积温度的升高,薄膜的结晶强度不断增加,薄膜中V元素的比例增大,方块电阻逐渐降低.600℃时薄膜在近红外光区的反射率接近50%,在中远红外区的反射率达到93.74%,得到了兼具阳光控制功能和低辐射功能的V掺杂的TiN镀膜玻璃.
关键词:
APCVD
,
沉积温度
,
掺钒
,
氮化钛
,
结构和性能
黄晟辰
,
赵高凌
,
汪建勋
,
韩高荣
材料科学与工程学报
通过熔融热处理方法得到了Eu3＋掺杂氧化锌微晶玻璃。利用XRD、透射电子显微镜研究了热处理后微晶玻璃的微结构。利用发射光谱研究了其发光性能。结果表明,样品在750℃热处理2h后,在玻璃网络中形成了尺寸约10nm的ZnO纳米晶。结构研究显示结晶后Eu3＋进入了ZnO晶格之中。发射光谱显示其发光性能随着ZnO含量的增加以及热处理时间的增加而显著增强。
关键词:
ZnO
,
微晶玻璃
,
Eu2O3
,
发光性能
谢莲革
,
汪建勋
,
沈鸽
,
翁文剑
,
杜丕一
,
韩高荣
功能材料
以单丁基三氯化锡(MBTC)和SbCl3为反应原料,采用常压化学气相沉积法(APCVD法)在不同的基板温度下制备Sb掺杂SnO2薄膜,用XRD、SEM表征了薄膜的结构和形貌,通过测量薄膜的方块电阻、载流子浓度、霍尔(Hall)系数、紫外可见光谱等性质,详细研究了基板温度对薄膜结构和光电性能的影响.实验表明550℃以上制备的样品为多晶薄膜,并保持四方相金红石型结构;在650℃下沉积的薄膜具有最低的方块电阻值,为72Ω/□;在可见光区域薄膜透射率和反射率随着基板温度的提高均有所下降.
关键词:
APCVD法
,
Sb掺杂SnO2薄膜
,
基板温度
