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杜锋 , 李晶 , 江忠浩 , 高月德
电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2010.04.003
通过X-射线衍射分析、场发射扫描电子显微镜分析、表面原子力显微镜分析及透射电子显微镜观察,得到了电刷镀纳米晶铜镀层为等轴晶粒结构,晶粒d平均为26nm,且分布均匀,主要为大角度晶界结构,不存在微观裂纹、微孔及明显的晶体织构.
关键词: 电刷镀 , 纳米晶 , 铜镀层 , 微观结构