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沉积压力对磁控溅射Mg薄膜结构的影响

毛飞雄 , 刘涛 , 于景坤

材料与冶金学报 doi:10.3969/j.issn.1671-6620.2012.02.006

采用直流磁控溅射方法在氧化锆固体电解质表面制备了Mg金属薄膜,利用XRD和SEM研究了沉积压力(0.9～2.1Pa)对薄膜形貌和结构的影响.结果表明:随着沉积压力的提高,薄膜结晶程度逐渐变差,晶粒尺寸减小,表面粗糙度增大；薄膜呈(002)择优生长的柱状晶结构,且随着沉积压力的提高薄膜厚度先增加后减小.

关键词: 磁控溅射 , Mg薄膜 , 沉积压力