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Si掺杂正交相SrHfO3电子结构与光学性质的第一性原理计算

樊淼海 , 刘正堂 , 冯丽萍 , 刘其军

稀有金属材料与工程

采用基于密度泛函理论的平面波超软赝势方法研究了正交相SrHfO3和以Si替换Hf方式形成的掺杂态SrHfO3的形成能,几何结构,电子结构和光学性质.负的形成能表明在由单元素形成Si掺杂态的SrHfO3的反应中,Si占居Hf位置与Sr位置两种情况在能量上是有利的,并且Si原子更加倾向于占居Hf位置.纯的SrHfO3计算得到的晶格常数与文献报道的实验值和理论值是一致的,而Si占居Hf位置后会导致SrHfO3的晶格常数减小.能带结构显示在掺入Si原子后会使带隙变小.布居分析与电荷密度图一致,说明在Hf位置掺入Si后掺杂位置附近的Hf-O键以共价键为主,Sr-O键以离子键为主.最后,对Si掺杂后SrHfO3在(100)方向上的介电常数、反射率、吸收系数、折射率进行了计算与分析.

关键词: 第一性原理 , 电子结构 , 光学性质 , Si掺杂正交相SrHfO3

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