文九巴
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樊丽梅
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赵胜利
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高春芳
,
宋国英
功能材料
采用固定金属离子亲和技术在不同表面形貌的硅基片上交联金属离子螯合物,蛋白质分子通过其末端的组氨酸标记(His-tag)与金属离子螯合,定向结合于硅基片表面构成蛋白质芯片,考察了不同表面形貌的硅基片对蛋白质的吸附行为.结果表明:硅基片的表面形貌对蛋白质的吸附行为有很大影响.硅基片经碱蚀刻获得的绒面氧化后因其较大的比表面积、特殊的空间结构及较小的固液接触角θ,对蛋白质具有较强的吸附能力,螯合的蛋白质种类多、丰度大.
关键词:
氧化硅载体
,
表面形貌
,
吸附
,
蛋白质芯片
文九巴
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樊丽梅
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赵胜利
,
祝要民
腐蚀学报（英文）
用HF+HNO.3溶液蚀刻单晶硅表面，通过扫描电镜表征其形貌和厚度变化，研究了蚀刻液浓度、蚀刻时间及温度对单晶硅化学蚀刻行为的影响.结果表明，温度对蚀刻速率的影响较大，温度升高使表面蚀刻不均匀，厚度急剧减小；硅片的厚度及表面形貌在蚀刻液浓度大于2.0 mol/L时变化较显著；室温时用1.5 mol/L HF+HNO3蚀刻15 min获得了蚀坑大小适中(10 μm～15 μm)、分布均匀的多孔状表面.
关键词:
单晶硅片
,
null
,
null
樊丽梅
,
文九巴
,
赵胜利
,
祝要民
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2007.01.007
采用酸碱两种不同的化学蚀刻液对单晶硅表面进行蚀刻,通过扫描电镜(SEM)对其形貌进行了表征,考察了蚀刻液浓度、蚀刻时间及温度对表面形貌的影响.结果表明,在HNO3+HF溶液中,20℃时用2.81mol/L HF+18.81mol/L HNO3反应5min或2.67mol/L HF+17.85mol/L HNO3反应15min,制得了硅片表面腐蚀坑大小适中、分布均匀的多孔状表面;在KOH水溶液中,50℃时在33%的KOH水溶液中反应10min获得了表面积大、分布均匀的绒状表面.
关键词:
化学蚀刻
,
单晶硅片
,
表面形貌
赵胜利
,
文九巴
,
樊丽梅
,
秦启宗
功能材料
脉冲激光沉积(pulsed laser deposition,PLD)是20世纪80年代发展起来的一种全新的制备薄膜技术,具有沉积速率高,再现性能好等优点.近年来,利用PLD技术在全固态薄膜锂电池的研究中取得许多有意义的结果.一系列新型、高质量的电池薄膜材料被成功制备;原位组装的薄膜锂电池表现出良好的电化学性能.本文简要介绍了PLD技术的原理和特点;重点评述PLD在全固态薄膜锂电池阴极薄膜、阳极薄膜和电解质薄膜制备中的应用状况.
关键词:
脉冲激光沉积
,
薄膜锂电池
,
制备
,
评述
赵胜利
,
文九巴
,
樊丽梅
,
祝要民
,
宋国英
功能材料
以单晶硅片为靶材,高纯Ar和O2分别为溅射气体和反应气体,采用反应磁控溅射法在铝基体上制备了硅氧化物薄膜.由扫描电镜(SEM)、投射电镜(TEM)、电子衍射(ED)、X射线能量散射仪(EDX)等表征了薄膜的形貌、结构和组成,通过划痕试验、弯曲试验以及热冲击试验考察了薄膜与基体结合性能.研究结果表明,在Al基体表面制备了表面粗糙度均匀、无裂缝的富硅非晶态硅氧化物薄膜,其中Si和O的原子比为1∶1.57.在经NaOH溶液腐蚀的Al基体上SiOx薄膜具有很强的结合能力,可作为蛋白质芯片的固相载体.
关键词:
硅氧化物薄膜
,
铝基体
,
磁控溅射
,
结合性能
文九巴
,
樊丽梅
,
赵胜利
,
祝要民
腐蚀学报（英文）
doi:10.3969/j.issn.1002-6495.2007.04.010
用HF+HNO3溶液蚀刻单晶硅表面,通过扫描电镜表征其形貌和厚度变化,研究了蚀刻液浓度、蚀刻时间及温度对单晶硅化学蚀刻行为的影响.结果表明,温度对蚀刻速率的影响较大,温度升高使表面蚀刻不均匀,厚度急剧减小;硅片的厚度及表面形貌在蚀刻液浓度大于2.0 mol/L时变化较显著;室温时用1.5 mol/L HF+HNO3蚀刻15 min获得了蚀坑大小适中(10 μm～15 μm)、分布均匀的多孔状表面.
关键词:
单晶硅片
,
化学蚀刻
,
表面形貌
