张琦
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王良焱
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李新军
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李芳柏
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何明兴
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梁园园
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2002.04.015
运用磁控溅射技术在浸渍-提拉法制得的TiO2薄膜上溅射三氧化钨层得到光催化薄膜.采用SEM、XRD、AES、UV-vis漫反射光谱等方法表征催化剂薄膜的厚度、晶相结构、化学元素组成及光吸收性能.以甲基橙的光催化降解为反应模型,高压汞灯为光源,溅射有三氧化钨薄膜的哪光催化活性低于纯TiO2薄膜;滤过紫外光后,溅射有三氧化钨的薄膜光催化活性明显高于纯TiO2薄膜.本实验提供了一种制备高可见光活性的TiO2薄膜的方法.
关键词:
薄膜
,
可见光活性
,
二氧化钛
,
磁控溅射
,
氧化钨
