梁爱民
,
徐洮
,
王立平
,
林义民
,
孙蓉
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2005.04.016
采用低能离子束辅助沉积技术在Si片上制备了TiN纳米薄膜.考察了离子束流密度和基底温度对薄膜性能的影响.研究表明:随着离子束流密度的增大,TiN薄膜的纳米硬度上升,膜基结合力变化不大,薄膜的耐磨性获得了很大改善;制膜时的基底温度升高,薄膜的硬度也会上升,但膜基结合力下降,摩擦系数增大,薄膜的耐磨性下降.
关键词:
TiN薄膜
,
离子束辅助沉积
,
结合强度
,
纳米硬度
,
摩擦学性能
庞重军
,
白明武
,
严洁
,
王博
,
林义民
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2007.03.007
极薄薄膜的覆盖率有时难以用常规方法定量表征.本文提出了一套以单层薄膜的角分辨X射线光电子能谱(ARXPS)模型测定极薄薄膜的厚度h,以恰好不再能检测到基底信号的光电子出射角(TOA)为最小基底信号起飞角θmin,以最大裸露线宽L=h/tgθmin为直径的圆形裸露区模型估算薄膜覆盖率的新方法.将该方法应用于热蒸镀法在羟基化硅基底上制备的极薄的岛状金膜,当TOA＞17.5°时Au 4f的峰强变化与单层膜的ARXPS模型吻合得很好;当TOA＜7.5°时不再能检出基底信号;测得金膜的厚度为16.0±0.4?,金膜覆盖率为～92%.
关键词:
材料检测与分析技术
,
薄膜厚度
,
覆盖率
,
ARXPS
,
金膜
