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采用中频反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜

杨钰瑛 , 孙维连 , 李新领 , 王会强 , 孙玉梅

材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2007.02.007

采用中频反应磁控溅射技术沉积ZrN薄膜,在真空镀膜机内对称安装了3对矩形孪生靶.利用等离子体发射光谱和质谱仪QMS200分别实时监控真空炉内靶材表面的谱线变化和各种气氛的分压强,并通过控制系统氮气流量自动调控,从而消除了靶中毒和打火现象,确保了溅射镀膜的稳定进行.通过对氮化锆膜层的显微组织观察、X射线衍射和俄歇半定量分析,沉积的氮化锆薄膜膜层致密,与基体的结合牢固.结果表明:当炉内氮气分压强为45%,控制靶电压200V,靶电流为25A,逐步调节Ar与N2比例,可获得成分均匀,膜层致密,结合力较好的金黄色氮化锆薄膜.

关键词: 中频溅射 , 孪生对靶 , 氮化锆 , 薄膜

Zr-N薄膜颜色变化规律的研究

罗蕴玲 , 孙维连 , 杨钰瑛

材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2005.05.011

应用中频非平衡磁控反应溅射技术沉积氮化锆薄膜,通过对Zr-N薄膜颜色测量,绘制了氮分压为横坐标的L*,a*,b*值的影响曲线和Zr-N薄膜随氮分压变化的反射率曲线.发现随真空炉内氮分压的增大,Zr-N薄膜的相结构发生变化,薄膜颜色由银白色→浅黄色→金黄色→深红色的颜色变化规律.比较Zr-N薄膜,TiN薄膜,黄金和金合金颜色,氮分压为50%时,与纯金的色差最小.结果表明,镀膜过程中控制氩气和氮气流量的比值(Ar/N2)可以调节Zr-N膜的颜色.氮分压有比较宽的可调节范围获得金黄色.

关键词: 氮化锆薄膜 , 颜色调控 , 磁控溅射 , 中频电源

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