王宏智
,
李剑
,
杨金爽
,
姚素薇
,
张卫国
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2008.05.006
纳米CdSe作为一种重要的半导体纳米材料,近年来引起了人们的广泛关注,各种制备方法也由此应运而生.因制备方法的不同,所得的纳米粒子的粒径、粒度均匀性及相结构也不同,进而影响它们的性质.主要综述了电化学方法在制备CdSe纳米材料领域中的应用及国内外研究现状,并对这一领域的发展方向作了展望.
关键词:
电化学方法
,
CdSe
,
纳米材料
刘锐
,
王宏智
,
彭海波
,
杨金爽
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2009.02.011
采用化学沉积的方法,在Ni-Sn-P合金基质上复合Si,N4粒子,获得(Ni-Sn-P)-Si3N4复合镀层.研究了镀液pH、温度、Si3N4微粒加入量以及搅拌速度等工艺条件对镀速的影响.对复合镀层表面形貌和结构进行了分析.测试了镀层的性能,发现随着镀层中Si3N4质量分数的增加,镀层的性能均按照一定的规律发生变化.当Si3N4的质量分数为最大值24.0%时,镀层硬度最高,耐磨性能最好.
关键词:
复合化学镀
,
镀速
,
硬度
,
耐磨性