孙学通
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江鸿杰
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杨萌蕾
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关锐峰
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张新平
功能材料
研究了多孔NiTi记忆合金在H2O2+HCl溶液中的低温化学氧化过程和500℃的高温热氧化过程。通过对比分析2种表面氧化处理后合金表面氧化膜的形貌、Ni/Ti比及膜层生长动力学曲线,探讨了多孔NiTi合金表面和孔内氧化膜的生长特点。结果表明,利用2种表面氧化技术在合金表面和孔内获得的氧化膜Ni含量均明显低于基体,且合金孔内氧化膜Ni含量低于表面氧化膜;多孔NiTi合金孔内的氧化对于与氧亲和力弱的Ni而言更加困难,孔内氧化膜的生长速率低于表面氧化膜的生长速率。
关键词:
多孔NiTi合金
,
表面氧化
,
生长速率
,
Ni/Ti原子比
孙学通
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杨萌蕾
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江鸿杰
,
关锐峰
,
张新平
材料导报
在H2O2+ HCl溶液中对多孔NiTi合金进行了化学氧化处理表面改性.利用EPMA、SEM、原子吸收光谱对合金表面氧化膜的组成、形貌及化学氧化处理前后的Ni离子释出进行了研究.结果表明,经过H2O2+HCl溶液化学氧化表面处理后合金表面Ni含量显著降低,在生理盐水中的Ni释放速率明显下降;H2O2+ HCl溶液浓度和氧化时间均对合金表面氧化膜的生长有较大影响.
关键词:
多孔NiTi合金
,
化学氧化
,
氧化膜
,
Ni离子溶出