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用于组装纳米粒子密集排列点阵的嵌段聚合物自组织图案模板的可控制备

杨玲 , 张佳兰 , 陈燕萍 , 丁奎 , 谢波 , 周丰 , 王广厚 , 韩民

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2008.01.024

利用溶剂引导的无序-有序相转变的方法制备了形貌可控的自组织嵌段聚合物薄膜,并对影响形貌的条件进行了讨论.通过控制一系列由大变小的溶剂蒸发速率,获得了形貌依次为无序多孔、有序多孔、有序多孔和面内柱状混合结构、及面内柱状等一组自组织图案,并以之为模板引导气相沉积团簇自组装,制备了"密集排列"的纳米粒子有序点阵.

关键词: 嵌段聚合物模板 , 自组织 , 密集排列纳米粒子点阵

水热法制备氧化铬及其常温低浓度一氧化氮催化性能

吴美健 , 高振源 , 袁静 , 赵昆峰 , 蔡婷 , 杨玲 , 张涛 , 何丹农

无机材料学报 doi:10.15541/jim20160019

以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为模板剂,氨水为沉淀剂,通过水热法并焙烧处理合成氧化铬催化剂.采用X射线衍射分析(XRD)、傅里叶变换红外光谱(FT-IR)、X射线光电子能谱(XPs)和透射电镜(TEM)等技术对催化剂的物化性质进行了表征,并考察常温不同NO初始浓度下氧化铬催化剂的NO氧化性能.结果表明:在空速为60000 mL/(g.h)和NO浓度为1×10-6的条件下,100℃水热温度制备的Cr-100催化剂表现出最优的性能,常温下NO消除率高达90%以上并保持120 h,其优异的常温催化性能与催化剂表面较高的Cr6+/Cr3+摩尔比有关.研究结果表明:催化剂的失活主要是由于硝酸根在催化剂表面的累积而导致催化剂活性中心被覆盖,低浓度下能减缓硝酸根的积累.

关键词: 水热法 , 常温 , 失活 , 氧化铬

Ce/ TiO2纳米复合粉体的制备及其性能评价

张小丽 , 毛健 , 王龙 , 侯廷红 , 杨玲 , 王彬 , 涂铭旌

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2005.03.021

以锐钛矿型纳米TiO2和硫酸铈为主要原料,采用浸渍法制备了Ce/ TiO2纳米复合材料.采用滴定法研究TiO2对Ce4+的吸附,结果表明,在pH值为2-7的范围内TiO2对铈离子的吸附量接近100%.采用X射线衍射(XRD)进行物相结构分析,发现在700℃下焙烧仍保持锐钛型结构,而在800℃下焙烧出现了金红石型TiO2和CeO2,说明铈离子的存在减缓了TiO2的晶型转变.最后以甲基橙为目标降解物评价了Ce4+/TiO2复合粉体的光催化反应活性.

关键词: 铈离子掺杂 , 纳米二氧化钛 , 吸附 , 晶体结构

乙烯基Ia3d介孔硅分子筛的环氧化及其固定化青霉素酰化酶

詹望成 , 吕勇军 , 杨玲 , 郭杨龙 , 王艳芹 , 郭耘 , 卢冠忠

催化学报 doi:10.1016/S1872-2067(14)60156-X

采用直接共聚法合成表面含有乙烯基的具有立方相Ia3d结构的介孔硅分子筛(V-ClMS),然后对乙烯基团进行环氧化制备得到表面环氧基功能化的介孔硅分子筛(E-CIMS),采用X射线衍射、N2吸附-脱附、透射电镜、热重分析和13C固体核磁共振对制备的介孔硅分子筛进行了表征。结果表明,表面含有乙烯基的V-ClMS介孔硅分子筛能被一步成功合成,并易于发生环氧化而获得表面环氧基功能化的E-CIMS介孔硅分子筛。将E-CIMS介孔硅分子筛作为载体用于固定化青霉素G酰化酶(PGA),研究了表面环氧基团对固定化PGA初活性和操作稳定性的影响。结果表明,随着表面环氧基团数量的增加,介孔硅分子筛孔径减小,表面疏水性增加,导致载酶量和初活性减小。但介孔硅分子筛表面适量的环氧基团能增强E-CIMS介孔硅分子筛与PGA之间的相互作用,从而提高固定化PGA的操作稳定性。

关键词: 直接共聚法 , 介孔硅分子筛 , , 固定化 , 青霉素酰化酶

鱼胶原基缓释材料的制备及其对罗丹明B的负载/缓释性能分析

张明 , 杨玲 , 吕辉华 , 未本美 , 张军涛 , 谢东 , 汪海波

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2017.03.001

以天然鱼源胶原为基质材料,以罗丹明B为模拟负载目标药物,采用不同方法制备负载罗丹明B的胶原缓释材料,以负载率和材料缓释性能作为评价指标,优化了胶原基生物缓释材料的制备工艺条件,探讨了胶原负载罗丹明B的缓释机制.实验结果表明,在直接共混、共混/组装、共混/组装/离心及共混/组装/离心/交联几种方法中,前2种方法制备材料对罗丹明B的负载率较高,但负载材料的缓释效果较差;而后2种方法罗丹明B负载率虽然较低,但展现出较好的缓释能力,其中共混/组装/离心方法的缓释效果最佳.在此基础上,进一步探讨了材料干燥方法和胶原浓度对材料缓释效果的影响.结果表明,在-22,-64,-196 ℃预冻后冷冻干燥及30 ℃烘箱干燥几种方法中,-64 ℃预冻后冷冻干燥形成的材料缓释效果最佳;提高胶原浓度后,材料的负载和缓释能力均有显著提升.针对胶原基负载罗丹明B材料的缓释动力学研究表明,该材料对罗丹明B的释放机理是基于菲克定律的Higuchi动力学模型的扩散过程;红外光谱分析进一步表明胶原对罗丹明B的吸附同时包含物理吸附和化学吸附两种形式;材料的电镜观察结果证实,该材料中罗丹明B大部分镶嵌或包裹在胶原纤维中,只有少部分被吸附在纤维表面.

关键词: 淡水鱼 , 胶原蛋白 , 自组装 , 缓释材料 , 罗丹明B

湿法刻蚀对ZnO∶Al透明导电薄膜结构与性能的影响

杨玲 , 许积文 , 王华 , 江民红 , 袁昌来

材料导报

室温下通过直流磁控溅射Al2O3掺杂3%(质量分数)的ZnO靶材制备了厚度约1μm、结晶度高、表面平整光滑的ZnO∶Al透明导电薄膜.研究盐酸、王水和草酸溶液对ZnO∶Al薄膜的湿化学刻蚀行为,分析刻蚀对薄膜微观结构、光刻图案、电学和光学性能的影响.结果表明,刻蚀对薄膜的结晶取向性无影响;经盐酸、王水和草酸刻蚀后薄膜的电阻率略有增大,从7.4mΩ·cm分别增大到8.7mnΩ· cm、8.8mQ·cm和8.6mΩ·cm;透光率略有下降,从80%分别下降到76%、77%和78%.0.5%的盐酸刻蚀可以获得结构良好的陷光结构.薄膜在盐酸中刻蚀速率快,易产生浮胶;在草酸中刻蚀图案清晰,但存在残留;在王水中刻蚀图案清晰且无残留.

关键词: ZAO薄膜 , 透明导电 , 湿法刻蚀

焙烧温度对载Ag多孔SiO2抗菌性能的影响

王彬 , 毛健 , 侯廷红 , 张小丽 , 杨玲 , 涂铭旌

材料开发与应用 doi:10.3969/j.issn.1003-1545.2004.05.006

以多孔SiO2为载体,通过吸附、焙烧等工艺将Ag+固定在多孔二氧化硅的孔隙内,制备出了载Ag无机抗菌剂;研究了不同焙烧温度(200℃、400℃、600℃、800℃)下这种抗菌剂对大肠杆菌的定性、定量抗菌性能以及抗菌持久性能的影响.结果表明:400℃焙烧时,该无机抗菌剂对大肠杆菌的抗菌效果符合日本无机抗菌剂行业标准且抗菌持久性强,其原因是该焙烧温度下多孔SiO2的孔隙结构可以对银离子起到有效的缓释作用.

关键词: 载Ag多孔SiO2 , 焙烧温度 , 抗菌

不同稀释剂中t-BAMBP萃取铷铯的研究

杨玲 , 王林生 , 赖华生 , 周建 , 文小强 , 陈佩琳

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2011.04.026

研究了以t-BAMBP作萃取剂,分别以二甲苯和二乙苯作稀释剂对铷、铯的萃取行为.考察了萃取温度、t-BAMBP浓度、振荡时间、振荡速度、料液相碱度与萃取相比对萃取的影响,比较两种稀释剂在各因素不同的影响.实验结果表明:二甲苯作稀释剂,铷、铯的分离系数较小,但其分配比较高;二乙苯作稀释剂,铷、铯的分离系数较大,但其分配比较低;温度对萃取的影响在二甲苯作稀释剂时更明显且低温对铷、铯萃取有利;不管是二甲苯还是二乙苯作稀释剂,铷、铯的分配比及分离系数均随t-BAMBP浓度的增加而增高,但浓度过高时粘度增加,影响分相速度;不管是二甲苯还是二乙苯作稀释剂,t-BAMBP萃取铷、铯反应较快,在5 min内达到平衡;振荡速度对萃取的影响在二乙苯作稀释剂时更明显,得出最佳振速为180~200 r·min(-1);不管是二甲苯还是二乙苯作稀释剂,铷、铯的分配比及分离系数均随料液相碱度的提高而增高,综合考虑最佳OH(-)浓度为1.0mol·L(-1);二甲苯与二乙苯作稀释剂时分别在萃取相比O/A为1/1和2/1时分配比及分离系数达最大值.

关键词: t-BAMBP , 二甲苯 , 二乙苯 , ,

TiO2掺杂ZnO-Bi2O3-Co2O3-MnCO3系低压压敏陶瓷的微结构和电性能研究

巨锦华 , 王华 , 许积文 , 任明放 , 杨玲 , 袁昌来

人工晶体学报

采用固相反应法制备了TiO2掺杂的ZnO-Bi2O3-Co2O3-MnCO3系低压压敏陶瓷.采用X射线衍射、扫描电镜、压敏电阻直流参数仪、阻抗分析仪等研究了掺杂量对陶瓷的微结构、压敏性能和阻抗等影响.结果表明:掺杂1.0mol%TiO2时综合电性能最好,压敏电压梯度为21.6 V/ mm,漏电流密度为0.02 μA/ mm2,非线性系数为33;掺杂最大于1.0 mol%时,压敏电压梯度降低的同时也使非线性系数降低,漏电流密度增大;Cole-Cole形式的复阻抗谱图表明掺杂1.0 mol%TiO2的晶界电阻最大,晶界电阻对ZnO-Bi2O3-Co2O3-MnCO3-TiO2系低压压敏陶瓷电阻的贡献最为明显.

关键词: ZnO-Bi2O3-CO2O3-MnCO3压敏陶瓷 , 微结构 , 电性能

溅射压强和退火气氛对Mg0.2Zn0.8O∶Al紫外透明导电薄膜结构与性能的影响

王华 , 燕红 , 许积文 , 江民红 , 杨玲

人工晶体学报

以自制Mg0.2Zn0.8O∶Al陶瓷为靶材,采用室温溅射后续退火磁控溅射工艺制备了Mg0.2Zn0.8O∶Al紫外透明导电薄膜.研究了溅射压强和退火气氛对Mg0.2Zn0.8O∶Al薄膜结构和光电性能的影响.结果表明:溅射氩气压强不影响薄膜的相结构,但对薄膜的取向生长和结晶质量有一定影响;薄膜的方块电阻随溅射压强的增加先大幅减小后有所增大,溅射气压为2.0 Pa时,薄膜的方块电阻最低;不同溅射气压下制备薄膜的透光范围均已扩展到了紫外区域,而且具有85%以上的高透射率,但溅射气压对薄膜的带隙宽度和透光率没有明显影响;室温下溅射制备的薄膜经真空退火处理后其导电性能显著提高,但在空气中退火处理后其导电性能反而有所下降.

关键词: Mg0.2Zn0.8O∶Al , 紫外透明导电薄膜 , 磁控溅射 , 溅射压强 , 退火气氛 , 光电性能

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