李姗
,
杨恢东
,
汪文明
,
雷飞
,
闵文骏
材料导报
doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2014.20.002
采用直流磁控溅射技术在柔性衬底聚酰亚胺(PI)上制备ZnO∶Al透明导电薄膜,研究氢气压强对样品薄膜结构、形貌和光电性能的影响,并与玻璃衬底进行了对比.结果表明:所有制备的ZAO薄膜都是六方纤锌矿结构且具有高度的c轴择优取向;氩气压强对样品薄膜的性能有较大影响,具体表现在:随着压强的增大,晶粒尺寸先增大后减小,方块电阻值先减小后增大,最小值出现在压强为12 Pa,其值为12 Ω/sq,600～800nm薄膜的相对透射率为94％,高于玻璃衬底的相对透射率.
关键词:
氩气压强
,
柔性衬底
,
ZnO∶Al薄膜
,
直流磁控溅射
杨恢东
,
王河深
,
李姗
,
李心茹
,
吴浪
材料保护
目前,磁控溅射制备ZnO∶Al薄膜时的溅射压强较低,若氩气流量不稳或腔室排气口处气流扰动会对溅射压强产生较大影响,影响成膜质量.为提高溅射薄膜质量,采用直流磁控溅射技术,在较高溅射压强下,以不同辉光功率在柔性衬底聚酰亚胺上制备了ZnO∶Al薄膜.采用紫外可见分光光度计、四探针测试仪、X射线衍射仪及扫描电镜测试薄膜性能,考察了辉光功率对薄膜光学特性、电学特性、薄膜结构和表面形貌的影响.结果表明:制备的薄膜均为六方纤锌矿结构,且有明显的c轴择优取向;随着辉光功率的增大,方块电阻先减小后增大,辉光功率为50 W时最小,为15.6 Ω,晶粒尺寸先增大后减小;在辉光功率为50 W时,600 ～ 800 nm波长范围内薄膜的相对透射率达到最大值96％.
关键词:
直流磁控溅射
,
ZnO∶Al薄膜
,
柔性衬底
,
辉光功率
,
方块电阻
,
相对透射率
